[发明专利]一种封装膜、制作方法、OLED器件的封装结构及显示装置

权利要求书

1.一种封装膜，其特征在于，包括：

第一柔性图层、第二柔性图层，以及位于所述第一柔性图层和第二柔性图层之间的流变性填充物、阻挡物；

所述阻挡物围成一填充区域，所述流变性填充物形成在所述填充区域内，所述第一柔性图层和所述第二柔性图层在所述阻挡物的外围闭合，从而与所述阻挡物共同密封所述流变性填充物；

所述流变性填充物由有机材料形成，所述阻挡物由无机材料形成；

所述第一柔性图层和第二柔性图层由无机材料形成。

2.根据权利要求1所述的封装膜，其特征在于，

所述阻挡物的形成材料与所述流变性填充物的形成材料不亲和。

3.根据权利要求1所述的封装膜，其特征在于，

所述阻挡物的高度为1μm～2μm。

4.一种封装膜的制作方法，其特征在于，包括：

形成第一柔性图层；

在所述第一柔性图层上形成阻挡物，所述阻挡物围成有一填充区域；

在所述阻挡物围成的填充区域内沉积流变性填充物；

形成完全覆盖所述阻挡物和流变性填充物的第二柔性图层，从而使得所述第二柔性图层在所述阻挡物的外围与所述第一柔性图层闭合；

所述流变性填充物由有机材料形成，所述阻挡物由无机材料形成；

所述第一柔性图层和第二柔性图层由无机材料形成。

5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，包括：

通过化学气相沉积法，形成第一柔性图层、阻挡物以及第二柔性图层中的一者或多者。

6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，

采用喷墨式打印机，在所述阻挡物围成的填充区域内沉积流变性填充物。

7.一种OLED器件的封装结构，包括衬底基板、形成在衬底基板上的OLED器件，其特征在于，还包括如权利要求1-3中任一项所述的封装膜，所述封装膜覆盖所述OLED器件，并密封所述OLED器件。

8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求7所述的OLED器件的封装结构。