[发明专利]器皿清洗机

说明书

本发明公开了一种器皿清洗机，包括清洗腔室、紫外线照射系统、控制器和排风系统，清洗腔室用于容纳被清洗器皿；紫外线照射系统设于清洗腔室内；控制器分别与紫外线照射系统和排风系统电连接；控制器用于在器皿清洗机冲洗结束时发送控制信号至所述紫外线照射系统和所述排风系统；紫外线照射系统用于在接收到控制信号时启动以发射紫外线照射被清洗器皿；排风系统用于在接收到控制信号时将清洗腔室内的气体排出。本发明的器皿清洗机在对器皿进行高压冲洗之后，通过紫外线照射系统发射紫外线照射器皿，使得残留在器皿表面上的有机物质转换成可挥发气体，并由排风系统排除，从而达到彻底清洗器皿的目的。

技术领域

本发明涉及一种器皿清洗机。

背景技术

目前在制药厂，实验员对玻璃器皿、实验器材的清洗一般都采用高压水喷淋、工业清洗剂冲洗的方法。对于一些质量较轻的器皿，水压过大容易将器皿冲走，可能损坏器皿，水压过小又达不到清洗的目的。对于形状较大的器皿，即使提高水压也常常留有死角未清洗，残留有机物质。可见，现有技术的器皿清洗机均存在未能对器皿彻底清洗的缺陷。

发明内容

本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术的器皿清洗机均存在未能对器皿彻底清洗的缺陷，提供一种器皿清洗机。

本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题：

一种器皿清洗机，包括清洗腔室，所述清洗腔室用于容纳被清洗器皿，其特点在于，所述器皿清洗机还包括：紫外线照射系统、控制器和排风系统；

所述紫外线照射系统设于所述清洗腔室内；所述控制器分别与所述紫外线照射系统和所述排风系统电连接；

所述控制器用于在器皿清洗机冲洗结束时发送控制信号至所述紫外线照射系统和所述排风系统；

所述紫外线照射系统用于在接收到所述控制信号时启动以发射紫外线照射所述被清洗器皿；

所述排风系统用于在接收到所述控制信号时将所述清洗腔室内的气体排出。

本方案中，器皿清洗机在对器皿进行高压冲洗之后，通过紫外线照射系统发射紫外线照射器皿，使得残留在器皿表面上的有机物质转换成可挥发气体，并由排风系统排除，从而达到彻底清洗器皿的目的。

较佳地，所述清洗腔室内设有搁置架，用于搁置所述被清洗器皿；

所述紫外线照射系统包括若干紫外线灯管，与所述控制器电连接；所述若干紫外线灯管设于所述搁置架上方，且每一紫外线灯管之间相互平行排列。

较佳地，所述紫外线照射系统还包括反射镜，设于所述若干紫外线灯管上方。反射镜用来会聚和反射紫外线，以增加被清洗器皿表面的照度。

较佳地，所述紫外线灯管发射的紫外线的波长为185nm和/或254nm。

本方案中，该波长的紫外线能使有机物质最大可能的、快速的转化成挥发气体，可提高清洗的力度及速度。

较佳地，相邻两紫外线灯管之间的距离为5mm-10mm；

和/或，每一紫外线灯管与所述搁置架之间的垂直距离为10mm-20mm。

本方案中，紫外线灯管的设置方式使得被清洗器皿表面既有足够强的照度，又有较好的照射均匀度。

较佳地，所述紫外线照射系统还包括漏磁变压器，所述若干紫外线灯管通过所述漏磁变压器与所述控制器电连接。漏磁变压器可使紫外线灯管在正常的工作环境中启动快，也即使紫外线灯管在短时间内达到正常工作状态，从而提高器皿清洗机的清洗效率。

较佳地，所述清洗腔室的侧壁面设有风窗；

所述排风系统包括通风管道及设于所述通风管道上的抽风机和限流阀门，所述抽风机和所述限流阀门均与所述控制器电连接；