[发明专利]一种金属掩膜板及其制备方法

权利要求书

1.一种金属掩膜板，其特征在于，包括显示区以及至少设置于所述显示区相对两侧的支撑区；

所述显示区包括多个像素开孔以及网格状遮光部；

所述支撑区包括下金属层和上金属层，其中，所述下金属层与所述网格状遮光部同时形成，所述上金属层形成于所述下金属层之上；

所述支撑区的厚度大于所述网格状遮光部的厚度。

2.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述支撑区至少包括分别设置于所述显示区相对两侧的两个固定凹槽。

3.根据权利要求2所述的金属掩膜板，其特征在于，两个所述固定凹槽设置于所述金属掩膜板的蒸镀面上。

4.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述网格状遮光部的厚度取值范围为8-50μm。

5.根据权利要求2所述的金属掩膜板，其特征在于，所述固定凹槽的深度取值范围为小于500μm。

6.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，多个所述像素开孔呈矩阵排布。

7.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述像素开孔的形状选自以下形状之一：矩形、多边型和圆形。

8.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述金属掩膜板包括多个平行设置的金属掩膜条；

每个所述金属掩膜条包括子显示区以及子支撑区，沿所述多个金属掩膜条排列方向的垂直方向，所述子支撑区设置于所述子显示区相对的两侧；

设置于所述子显示区每一侧的子支撑区包括一个子固定凹槽；

所述多个子显示区构成所述显示区，所述多个子支撑区构成所述支撑区，所述多个子固定凹槽构成所述固定凹槽。

9.根据权利要求8所述的金属掩膜板，其特征在于，每个所述子显示区中的多个像素开孔沿多个所述掩膜条排列方向的垂直方向排布。

10.一种金属掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

在所述基板上形成第一阻挡层，所述第一阻挡层包括多个相互独立的阻挡块，多个所述阻挡块以及各所述阻挡块之间的间隙所在区域为显示区，所述显示区对应所述基板的中心区域设置；

在所述第一阻挡层之外的区域形成第一金属层，所述第一金属层所在区域为支撑区；

在所述显示区对应的区域形成第二阻挡层；

在所述第二阻挡层之外的区域形成第二金属层；

去除所述基板、所述第一阻挡层以及所述第二阻挡层，以获得所述金属掩膜板。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述第一阻挡层还包括至少分别设置于所述显示区相对两侧的多个阻挡条。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述第一阻挡层以及所述第二阻挡层的材料为光阻材料。

13.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述第一金属层和所述第二金属层采用电铸工艺形成。

14.一种金属掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一基板

在所述基板上形成第一金属层；

在所述第一金属层上形成第三阻挡层，所述第三阻挡层所在区域为显示区，对应所述基板的中心区域设置；

在所述第三阻挡层之外的区域形成第二金属层，所述第三阻挡层之外的区域为支撑区；

去除所述基板以及所述第三阻挡层；以及

在所述第三阻挡层对应区域内的第一金属层上形成多个相互独立的像素通孔，以获得所述金属掩膜板。