[发明专利]金属污染防止方法及金属污染防止装置、以及使用了它们的基板处理方法及基板处理装置

权利要求书

1.一种金属污染防止方法，其是在使用表面被由氧化铬形成的钝化膜覆盖的金属部件之前进行的金属污染防止方法，该方法具备如下工序：

对覆盖所述金属部件的表面的所述钝化膜供给硝酸，使所述氧化铬与所述硝酸反应，而生成硝酸铬的工序；和，

通过使该硝酸铬蒸发而自所述钝化膜去除铬的工序。

2.根据权利要求1所述的金属污染防止方法，其中，所述硝酸是由供给至所述金属部件的多种气体的反应而生成的。

3.根据权利要求2所述的金属污染防止方法，其中，所述多种气体包括含氮气体和含氧气体。

4.根据权利要求3所述的金属污染防止方法，其中，所述含氮气体为N₂，所述含氧气体包含O₃。

5.根据权利要求3所述的金属污染防止方法，其中，所述含氮气体和所述含氧气体是以在所述金属部件中合流的方式借助各分支配管供给的。

6.根据权利要求5所述的金属污染防止方法，其中，所述硝酸是通过所述含氮气体和所述含氧气体与各自含有的水分、或附着于所述分支配管和所述金属部件中的至少一者的表面的水分反应而生成的。

7.根据权利要求1所述的金属污染防止方法，其中，所述硝酸直接供给至所述金属部件。

8.根据权利要求1所述的金属污染防止方法，其中，自所述钝化膜去除铬的工序包括将所述金属部件的周围气氛减压的工序。

9.根据权利要求1所述的金属污染防止方法，其中，自所述钝化膜去除铬的工序包括将所述金属部件的周围气氛加热的工序。

10.根据权利要求1所述的金属污染防止方法，其中，自所述钝化膜去除铬的工序进行到所述钝化膜的距离表面规定深度以下的表层区域中的所述铬的浓度达到规定值以下为止。

11.根据权利要求10所述的金属污染防止方法，其中，所述规定深度为2nm。

12.根据权利要求1所述的金属污染防止方法，其中，所述金属部件为配管，所述表面为该配管的内周面。

13.根据权利要求12所述的金属污染防止方法，其中，所述配管由不锈钢形成。

14.根据权利要求12所述的金属污染防止方法，其中，所述配管为氧化气体供给用的配管。

15.一种基板处理方法，其中，配管与基板处理装置的处理室连接，

该方法具备如下工序：在实施权利要求12所述的金属污染防止方法之后，从所述配管向所述处理室供给处理气体而进行基板处理。

16.一种金属污染防止装置，其是在使用表面被由氧化铬形成的钝化膜覆盖的金属部件之前实施金属污染防止处理的金属污染防止装置，该装置具备：

对覆盖所述金属部件的表面的所述钝化膜供给硝酸的硝酸供给单元；和使通过由该硝酸供给单元供给的所述硝酸与所述氧化铬的反应而生成的硝酸铬蒸发的蒸发单元。

17.根据权利要求16所述的金属污染防止装置，其中，所述硝酸供给单元具有使含氮气体和含氧气体分别供给至所述金属部件中的第一分支配管和第二分支配管。

18.根据权利要求17所述的金属污染防止装置，其中，供给所述含氧气体的所述第二分支配管连接有臭氧产生装置，所述含氧气体包含由该臭氧产生装置生成的臭氧。

19.根据权利要求18所述的金属污染防止装置，其中，能够向所述臭氧产生装置供给氧气和氮气，

所述臭氧产生装置除了所述臭氧以外，还能够生成硝酸和氮气中的至少任一种。

20.根据权利要求16所述的金属污染防止装置，其中，所述蒸发单元包括将所述金属部件的周围气氛减压的减压单元。

21.根据权利要求16所述的金属污染防止装置，其中，所述蒸发单元包括将所述金属部件的周围气氛加热的加热单元。

22.根据权利要求16所述的金属污染防止装置，其中，所述金属部件为配管，

所述表面为该配管的内周面。

23.根据权利要求22所述的金属污染防止装置，其中，所述配管由不锈钢形成。