[发明专利]正电子标记纳米探针68Ga‑NOTA‑DGL‑Ac及其制备方法与用途

权利要求书

1.一种化合物⁶⁸Ga-NOTA-DGL-Ac。

2.一种如权利要求1所述化合物的制备方法，其特征在于，采用⁶⁸Ga对前体DGL-NOTA-Ac进行放射性标记，即得化合物⁶⁸Ga-NOTA-DGL-Ac。

3.如权利要求2所述化合物的制备方法，其特征在于，所述化合物⁶⁸Ga-NOTA-DGL-Ac的制备方法包括以下步骤：(1)取适量稀盐酸对锗-镓发生器进行淋洗，收集洗脱液，选取活度最大的洗脱液；(2)向步骤(1)所得的活度最大的洗脱液中加入醋酸钠溶液，调整pH，然后加入到DGL-NOTA-Ac醋酸钠缓冲液中；(3)将步骤(2)所得混合溶液进行避光反应，反应结束即得⁶⁸Ga-NOTA-DGL-Ac。

4.如权利要求3所述化合物的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中稀盐酸的浓度为0.05mol/L，对锗-镓发生器进行淋洗的淋洗流率1ml/min。

5.如权利要求3所述化合物的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中醋酸钠溶液的浓度为1.0mol/L。

6.如权利要求3所述化合物的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中调整pH到4.0-4.2。

7.如权利要求3所述化合物的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中避光反应的条件为在70℃下避光反应10min。

8.如权利要求2所述化合物的制备方法，其特征在于，所述前体DGL-NOTA-Ac的制备方法包括以下步骤：(1)将DGL G3溶于DMSO中，搅拌混匀至完全溶解；(2)将NOTA-NHS溶于DMSO中，搅拌混匀至完全溶解；(3)将步骤(1)中溶解好的DGL G3与步骤(2)中溶解好的NOTA-NHS进行混合，室温下避光反应；(4)然后向步骤(3)所得混合溶液中加入过量的三乙胺，室温下避光搅拌，然后加入过量的醋酸酐，在相同反应条件下继续反应，反应结束即得前体DGL-NOTA-Ac。

9.如权利要求8所述化合物的制备方法，其特征在于，所述前体DGL-NOTA-Ac的制备方法还包括步骤(5)反应结束后在0.5mol/L、pH＝4.0的醋酸钠缓冲液中透析步骤(4)所得的前体，即可得到较纯的前体DGL-NOTA-Ac。

10.如权利要求1所述化合物作为正电子标记纳米探针在基因治疗、药物递释和生物成像中的应用。