[发明专利]抗菌面膜基布

权利要求书

1.一种抗菌面膜基布，包括基布体，其特征是所述基布体为经抗菌处理的抗菌基布体，所述抗菌基布体其抗菌处理包括用抗菌处理溶液对其进行喷液抗菌处理或浸液抗菌处理。

2.根据权利要求1所述化妆用抗菌基布体，其特征是所述抗菌基布体其浸液抗菌处理包括用水与相应的抗菌剂以一定的质量或体积配比制成的抗菌处理溶液对相应的基布体进行浸液处理，之后以一定的温度进行烘干处理。

3.根据权利要求1或2所述抗菌面膜基布，其特征是所述抗菌基布体其浸液抗菌处理的浸液处理时间为0.01-10小时，其浸液处理后的烘干处理温度为100-180^oC。

4.根据权利要求1或2所述抗菌面膜基布，其特征是所述抗菌处理溶液的抗菌剂与水的质量配比为99.5：0.5。

5.根据权利要求1或2所述抗菌面膜基布，其特征是所述抗菌处理溶液其抗菌剂包括BEK560、BIT20、壳聚糖或甲壳素抗菌剂。

6.根据权利要求5所述抗菌面膜基布，其特征是所述壳聚糖抗菌剂由一定比例的聚壳糖溶液与醋酸溶液混合制作而成。

7.根据权利要求1或2所述抗菌面膜基布，其特征是所述抗菌基布体包括功能层、保护层以及设于所述功能层与保护层之间的储液层，其经水刺法、交织法、针刺法或喷织法制成。

8.根据权利要求1或2所述抗菌面膜基布，其特征是所述抗菌基布体由生物纤维材料构成。