[发明专利]具有漂移沟道的紫外雪崩光电二极管探测器及其探测方法有效
申请号: | 201710128147.2 | 申请日: | 2017-03-06 |
公开(公告)号: | CN106960852B | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
发明(设计)人: | 袁俊;倪炜江;张敬伟;李明山;牛喜平;徐妙玲;胡羽中 | 申请(专利权)人: | 北京世纪金光半导体有限公司 |
主分类号: | H01L27/144 | 分类号: | H01L27/144;H01L31/107 |
代理公司: | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 | 代理人: | 张宇锋 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 漂移 沟道 紫外 雪崩 光电二极管 探测器 及其 探测 方法 | ||
1.具有漂移沟道的紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述探测器的每个器件单元从上至下依次包括CE电极、SiO2层、N-CHANNEL、P-well或N-well、衬底和背面电极;其中,所述CE电极嵌入在所述SiO2层的中心;所述P-well或N-well由对称设置在所述器件单元左右两侧的两部分构成;所述N-CHANNEL设在SiO2层下方,两部分P-well或N-well的上方;N-CHANNEL的上部中心设置有点状雪崩二极管,所述点状雪崩二极管与所述CE电极电连通;所述SiO2层上由内到外依次设置有内漂移环、外漂移环和接地GND,所述接地GND与P-well或N-well电连通;
所述探测器由N型或P型碳化硅单晶片制成,所述碳化硅单晶片的厚度为100微米-0.5毫米。
2.根据权利要求1所述的具有漂移沟道的紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述P-well或N-well由离子注入或外延工艺制成,深度为0.1-5微米。
3.根据权利要求1所述的具有漂移沟道的紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述CE电极由金属电极或透明导电膜制成。
4.根据权利要求3所述的具有漂移沟道的紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述透明导电膜为氧化铟锡膜,其厚度为10纳米-10微米。
5.一种使用权利要求1-4任一所述的具有漂移沟道的紫外雪崩光电二极管探测器进行探测的方法,其特征在于,所述方法为:CE电极相对于内漂移环加负偏压到雪崩击穿电压以上,在空穴漂移到雪崩区后引发雪崩信号;背面电极相对于GND加正偏压,使P-well全耗尽并在P-well中形成一条空穴电势能谷,同时内漂移环、外漂移环以及N-channel构成电阻分压结构的漂移电场分布沟道,形成侧向的均匀漂移电场;被测光信号从所述探测器的正面入射进入器件,在耗尽区中产生电子-空穴对,电子被排斥进入衬底,而空穴被集中于漂移通道中并在漂移环所产生的侧向电场下漂移至器件中心的雪崩区,在雪崩区发生电离碰撞倍增而被放大或产生雪崩信号。
6.根据权利要求5所述的探测方法,其特征在于,所述被测光信号指紫外光或X光。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的