[发明专利]一种利用熔融碱和超声剥离技术制备六方氮化硼纳米片的方法

权利要求书

1.一种制备六方氮化硼纳米片的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

1）提供第一混合液，所述第一混合液包含第一溶剂和分散于所述第一溶剂之中的经熔融碱预处理的六方氮化硼粉末；所述第一溶剂为水；

其中，所述经熔融碱预处理的六方氮化硼粉末是如下制备的：

a-1) 提供碱性物质和六方氮化硼粉末；其中，所述碱性物质选自下组：氢氧化钠、氢氧化钾、或其组合；所述六方氮化硼粉末的粒径为3-18μm；

a-2) 混合所述碱性物质和所述六方氮化硼粉末，得到第一混合物；其中，所述第一混合物中，所述碱性物质和所述六方氮化硼粉末的质量比为1-6；

a-3) 高温处理所述第一混合物，得到所述经熔融碱预处理的六方氮化硼粉末；其中，所述高温处理的处理温度为120-260℃；

2）超声处理所述第一混合液，得到第二混合液；其中，所述超声处理的处理功率为100-250W；和所述超声处理的处理时间为0.5-3h；

3）过滤处理所述第二混合液，并洗涤处理所得沉淀，并将所得产物重分散于第二溶剂中，得到第三混合液；其中，所述第二溶剂为水；并且在步骤3）中，所述过滤处理所用过滤网的孔径为0.4-1 um；

4）离心处理前述步骤所得产物，收集上层分散液，干燥处理得到六方氮化硼纳米片；

在步骤4）之后，还包括如下步骤：

5）将步骤4）中离心所得沉淀物重分散于第二溶剂中，添加碱性物质，得到第四混合液；

6）重复步骤2）-4），不同在于：以所述第四混合液代替所述第一混合液；

所述六方氮化硼纳米片具有以下特征：

1）所述六方氮化硼纳米片的粒径为0.5 – 2.5 um；

2）所述六方氮化硼纳米片的厚度为0.5 – 7 nm；

3）所述六方氮化硼纳米片的表面修饰有羟基；和

4）以所述六方氮化硼纳米片抽滤制成的匀热片热导率高达58 W/mK。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述六方氮化硼粉末的粒径为4-15μm；或

a-2)所述第一混合物中，所述碱性物质和所述六方氮化硼粉末的质量比为1；或

步骤2）中，所述超声处理的处理功率为120-200W。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述碱性物质为氢氧化钠与氢氧化钾的混合物，并且所述碱性物质中，氢氧化钠与氢氧化钾的质量混合比为0.1-5。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一混合物中，所述碱性物质和所述六方氮化硼粉末的质量比为1。

5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述高温处理的处理温度为140-240℃；和/或

所述高温处理的处理时间为0.5-4h。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤2）中，所述超声处理的处理功率为120-200W；和

所述超声处理的处理时间为0.5-3h。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤4）中，所述离心处理的离心速度为500-8000rpm；和/或

所述离心处理的离心时间为1-60min。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤4）中，所述干燥处理的处理温度为50－120℃；和/或

所述干燥处理的处理时间为0.5－4 h。

9.一种六方氮化硼纳米片，其特征在于，所述六方氮化硼纳米片是采用权利要求1所述的方法制备的。

10.如权利要求9所述的六方氮化硼纳米片，其特征在于，所述六方氮化硼纳米片具有以下特征：

1）所述六方氮化硼纳米片的粒径为0.5 – 2.5 um；

2）所述六方氮化硼纳米片的厚度为0.5 – 7 nm；

3）所述六方氮化硼纳米片的表面修饰有羟基；和

4）以所述六方氮化硼纳米片抽滤制成的匀热片热导率高达58 W/mK。