[发明专利]光烧结装置有效

专利信息
申请号: 201710129708.0 申请日: 2017-03-06
公开(公告)号: CN107228561B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 李淳钟;禹奉周;李东锡 申请(专利权)人: 塞米西斯科株式会社
主分类号: F27B9/20 分类号: F27B9/20;F27B9/30;F27B9/36
代理公司: 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 杨贝贝;臧建明<国际申请>=<国际公布>
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 烧结 装置
【权利要求书】:

1.一种光烧结装置,其特征在于,包括:

第一弯曲部,其配置在向被处理物发光的发光部所在位置的左上侧且具有向上鼓起的形状,向所述被处理物的方向反射从所述发光部射出的光;

第二弯曲部,其配置在所述发光部所在位置的右上侧且具有向上鼓起的形状,向所述被处理物的方向反射从所述发光部射出的光;

第一反射壁;及

第二反射壁,

所述第一弯曲部与所述第一反射壁之间形成有向上鼓起的结构的第一辅助弯曲部,其向所述被处理物方向反射所述发光部射出的光,所述第二弯曲部与所述第二反射壁之间形成有向上鼓起的结构的第二辅助弯曲部,其向所述被处理物方向反射所述发光部射出的光,

所述第一反射壁从所述第一辅助弯曲部的端部向下曲线延伸,所述第二反射壁从所述第二辅助弯曲部的端部向下曲线延伸。

2.根据权利要求1所述的光烧结装置,其特征在于:

所述第一弯曲部的弦与所述第二弯曲部的弦位于同一线上,所述第一弯曲部的右侧端部与所述第二弯曲部的左侧端部形成接点,从所述接点向所述发光部的长度方向剖面中心延伸的线相对于形成有所述被处理物的基板垂直。

3.根据权利要求2所述的光烧结装置,其特征在于:

所述第一反射壁及所述第二反射壁中至少一个反射壁具有随着趋向所述被处理物的方向而相对于形成有所述被处理物的基板向外侧张开的曲线形状。

4.根据权利要求3所述的光烧结装置,其特征在于:

所述第一反射壁及所述第二反射壁以从所述接点向所述发光部的长度方向剖面中心延伸的线为基准彼此对称。

5.根据权利要求1所述的光烧结装置,其特征在于:

所述第一反射壁及所述第二反射壁中至少一个反射壁的曲率半径随着趋向形成有所述被处理物的基板方向逐渐增大。

6.根据权利要求2所述的光烧结装置,其特征在于:

在卷对卷工序中所述被处理物的移动方向为从所述第一反射壁到所述第二反射壁的方向,形成有所述被处理物的基板的中心位于所述接点的下侧的情况下,所述第一反射壁比所述第二反射壁更相对于形成有所述被处理物的基板向外侧张开。

7.根据权利要求1所述的光烧结装置,其特征在于:

在卷对卷工序中所述被处理物的移动方向为从所述第一反射壁到所述第二反射壁的方向的情况下,所述第一反射壁的反射率小于所述第二反射壁的反射率。

8.根据权利要求1所述的光烧结装置,其特征在于:

所述第一弯曲部以所述第一弯曲部的弯曲的中心为基准对称,所述第二弯曲部以所述第二弯曲部的弯曲的中心为基准对称。

9.根据权利要求1所述的光烧结装置,其特征在于:

所述发光部是氙灯,所述氙灯配置在从所述第一弯曲部的右侧端部与所述第二弯曲部的左侧端部形成的接点向下侧方向相隔的位置。

10.根据权利要求1所述的光烧结装置,其特征在于:

所述第一弯曲部与所述第二弯曲部之间形成有相隔空间,所述相隔空间由非反射物质构成。

11.一种光烧结装置,其特征在于,包括:

内部上端面,其向被处理物方向反射从发光部射出的光;

第一反射壁;及

第二反射壁,

所述第一反射壁及所述第二反射壁中至少一个反射壁具有随着趋向所述被处理物的方向而相对于所述被处理物向外侧张开的曲线形状,

所述内部上端面的一侧与所述第一反射壁之间形成有向上鼓起的结构的第一辅助弯曲部,其向所述被处理物方向反射所述发光部射出的光,所述内部上端面的另一侧与所述第二反射壁之间形成有向上鼓起的结构的第二辅助弯曲部,其向所述被处理物方向反射所述发光部射出的光,

所述第一反射壁从所述第一辅助弯曲部的一端向下曲线延伸,所述第二反射壁从所述第二辅助弯曲部的一端向下曲线延伸。

12.一种光烧结装置,其特征在于,包括:

内部上端面,其向被处理物方向反射从发光部射出的光;

第一反射壁;及

第二反射壁,

所述第一反射壁及所述第二反射壁中至少一个的曲率半径随着趋向形成有所述被处理物的基板方向逐渐增大,

所述内部上端面的一侧与所述第一反射壁之间形成有向上鼓起的结构的第一辅助弯曲部,其向所述被处理物方向反射所述发光部射出的光,所述内部上端面的另一侧与所述第二反射壁之间形成有向上鼓起的结构的第二辅助弯曲部,其向所述被处理物方向反射所述发光部射出的光,

所述第一反射壁从所述第一辅助弯曲部的一端向下曲线延伸,所述第二反射壁从所述第二辅助弯曲部的一端向下曲线延伸。

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