[发明专利]一种微纳米台阶标准样板及其循迹方法

权利要求书

1.一种微纳米台阶标准样板，其特征在于：所述的微纳米台阶标准样板包括A工作区域及B循迹区域；所述的A工作区域内设有一个纳米级台阶、四个校准定位块及四个循迹参考定位块，所述的纳米级台阶的上平面为一个长方形，设于A工作区域的中心位置，所述的四个校准定位块的上平面均为正方形，设于所述纳米级台阶的四个顶角外侧位置处，所述的四个循迹参考定位块的上平面形状均是由一个矩形、一个等边三角形和一个等腰直角三角形拼接而成的形状，并以纳米级台阶为中心，对称设于所述四个校准定位块的左右两侧，所述的B循迹区域以A工作区域为中心设有四个上平面为等腰三角形的循迹标识符。

2.根据权利要求 1 所述的微纳米台阶标准样板，其特征在于：所述的B循迹区域还设有设计单位标识符和样板型号标识符。

3.根据权利要求 1 所述的微纳米台阶标准样板，其特征在于：所述A工作区域的四个校准定位块对称分布于纳米级台阶的四角外侧，其与纳米级台阶接近的一边与纳米级台阶的短边重合或平行，呈“工”字形排列。

4.根据权利要求 1 所述的微纳米台阶标准样板，其特征在于：所述A工作区域的四个循迹参考定位块以所述的纳米级台阶为中心对称分布，且两两循迹参考定位块间设有间隙，每个所述的循迹参考定位块中平面形状为等边三角形的部分设于其矩形形状的外侧、平面形状为等腰直角三角形的部分设于矩形形状的内侧，且所述等腰直角三角形的一条直角边与所述的矩形形状的长边重合、另一条直角边与所述纳米级台阶的短边平行，所述的四个循迹参考定位块与所述的纳米级台阶整体呈“川”字形排列。

5.根据权利要求 1 所述的微纳米台阶标准样板，其特征在于：所述B循迹区域的四个循迹标识符是以A工作区域为中心的两两相互对称的上平面为等腰三角形的循迹标识符，且每个所述等腰三角形的顶角分别指向对应的A工作区域的边框中点。

6.一种权利要求1～5中任意一项所述微纳米台阶标准样板的循迹方法，其特征在于：通过所述微纳米台阶标准样板的B循迹区域内两对相互对称的上平面为等腰三角形的循迹标识符配合设置的设计单位标识符和样板型号标识符，确定微纳米台阶标准样板摆放方向与具体位置，实现在测量前与测量中的快速定位，通过所述微纳米台阶标准样板的A工作区域内纳米级台阶四角处对应设置的四个校准定位块在A工作区域内从纵向上快速校准定位，通过所述A工作区域内的四个循迹参考定位块在A工作区域内从横向上快速进行定位，通过所述A工作区域内两两循迹参考定位块间的间隙确定测量的初始位置，完成整个校准过程。

7.根据权利要求6所述的微纳米台阶标准样板的循迹方法，其特征在于：所述微纳米台阶标准样板的B循迹区域内的两对相互对称的循迹标识符设置为上平面大小不相等的两对等腰三角形，以便配合设计单位标识符和样板型号标识符，快速确定微纳米台阶标准样板的摆放方向与具体位置，当纳米测量仪的镜头聚焦于此区域内时，通过观察到的相应的标识符进行定位，从而便于将纳米测量仪的定位平台移至测量时所需的位置，大大提高测量效率。

8.根据权利要求6所述的微纳米台阶标准样板的循迹方法，其特征在于：当使用纳米测量仪进行测量时，纳米测量仪的镜头聚焦于所述A工作区域的校准定位块上时，寻找校准定位块的正方形平面的边角来定位所处位置，再通过操作纳米测量仪的定位平台移至最佳测量位置，实现纵向快速定位。

9.根据权利要求6所述的微纳米台阶标准样板的循迹方法，其特征在于：当使用纳米测量仪进行测量，纳米测量仪的镜头聚焦于所述A工作区域内的循迹参考定位块时，寻找矩形形状边上的三角形形状，若视野内出现等边三角形的顶角或两条斜边则说明镜头正处于矩形的外边缘，若视野内出现等腰直角三角形的斜边与直角边或这两条边形成的锐角则说明镜头正处于矩形的内边缘，再通过操作纳米测量仪的定位平台移至测量所需位置，实现横向快速定位，并寻找同侧两个矩形间的间隙，确定纳米级台阶的起始测量位置，并完成整个校准过程。