[发明专利]防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710131454.6 申请日: 2017-03-07
公开(公告)号: CN106946473B 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 赵青南;孙杰;董玉红;刘旭;赵杰;缪灯奎 申请(专利权)人: 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司
主分类号: C03C17/42 分类号: C03C17/42
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 邬丽明
地址: 223800 江苏省宿*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 紫外线 具有 精细 纹理 图案 装饰玻璃 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃,其特征在于,包括玻璃基板以及依次设置于玻璃基板上的不导电底膜层、不导电防紫外线膜层、不导电高反射膜层、印刷油墨图案层以及保护油墨层,其中,

所述不导电底膜层为SiOX膜层,x=1~2,膜层厚度5nm~25nm;所述不导电防紫外线膜层为金属氧化物膜层与非晶硅膜层形成的复合膜层,膜层总厚度90nm~156nm;所述不导电高反射膜层为氧化不锈钢膜层、氮化硅膜层或氮氧化硅膜层,膜层总厚度110 nm~220nm,不导电高反射膜层的光学带隙小于3.1eV;非晶硅膜层位于金属氧化物膜层和不导电底膜层之间。

2.如权利要求1所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃,其特征在于,所述金属氧化物为氧化铈、氧化铌、氧化锆、氧化锡、氧化钨或氧化镍。

3.如权利要求1所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃,其特征在于,所述不导电高反射膜层的折射率为1.8~2.2。

4.如权利要求1所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

采用磁控溅射工艺镀制不导电底膜层;

在不导电底膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电防紫外线膜层;

在不导电防紫外线膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电高反射膜层;

在不导电高反射膜层上形成印刷油墨图案层;

在印刷油墨图案层上形成保护油墨层。

5.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法,其特征在于,镀制不导电底膜层的操作条件为:在真空箱体中,氧气和氩气流量比例5~15%,溅射气压(2.5~4.5)×10-1Pa,用纯硅或硅硼做靶材进行磁控溅射。

6.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法,其特征在于,所述在不导电底膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电防紫外线膜层的步骤具体包括:

在真空箱体中,使用氩气为工作气体,溅射气压(2.5~4.5)×10-1Pa,用纯硅或硅硼做靶材沉积得到非晶硅膜层;

真空箱体中,氧气和氩气流量比例15~25%,溅射气压(2.5~4.5)×10-1Pa,用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材。

7.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法,其特征在于,镀制不导电高反射膜层的操作条件为:

当不导电高反射膜层为氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层时,在真空箱体中,氧气和氩气流量比例15~25%,溅射气压(2.5~4.5)×10-1Pa,用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材沉积得到氧化不锈钢膜层;

当不导电高反射膜层为氮氧硅膜层时,真空箱体中,氧气和氮气流量比例5~15%,溅射气压(2.5~4.5)×10-1Pa,用纯硅或硅硼做靶材沉积得到氮氧硅膜层。

8.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法,其特征在于,在不导电防紫外线膜层上形成印刷油墨图案层的方法为丝网印刷、热转印、UV转印、喷绘或打印。

9.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法,形成印刷油墨图案层时采用热固化处理或者紫外线固化处理,采用热固化处理时,在140℃~260℃热处理5~15分钟固化;采用紫外固化油墨时,紫外辐射波长为280nm~385nm,照射3~15分钟;形成保护油墨层时,采用热固化处理或者紫外线固化处理,采用热固化处理时,在140℃~260℃热处理5~15分钟固化;采用紫外固化油墨时,紫外辐射波长为280nm~385nm,照射3~15分钟。

10.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法,在不导电高反射膜层上形成印刷油墨图案层之前还包括:对不导电高反射膜层进行等离子体处理,电压1000~1200伏,气压10-1~10-2Pa。

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