[发明专利]一种具有复合功能薄膜的可钢化镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种具有复合功能薄膜的可钢化镀膜玻璃，包括玻璃基片（1），在所述玻璃基片（1）的复合面上由内到外依次相邻地复合有膜层，其中第一膜层为Si₃N₄层（21），第二膜层为AZO层（22），第三膜层为NiCr层（23），第四膜层为Ag层（24），第五膜层为NiCr层（25），第六膜层为AZO层（26），第七膜层为Si₃N₄层（27），其特性在于，在所述第七膜层之上还沉积有第八层SiN_xO_y层（28），所述第八膜层SiN_xO_y层（28）与所述第七膜层Si₃N₄层（27）之间形成热反射界面（2），可有效限制太阳光辐射的入射量，其红外热反射率≥85%，辐射率为0.06～0.10。

2.根据权利要求1所述的一种具有复合功能薄膜的可钢化镀膜玻璃，其特征在于所述第一膜层Si₃N₄层（21）的厚度为35～40nm；所述第二膜层AZO层（22）的厚度为5～7nm；所述第三膜层NiCr层23的厚度为7～10nm；所述第四膜层Ag层（24）的厚度为30～35nm；所述第五膜层NiCr层（25）的厚度为7～10nm；所述第六膜层AZO层(26)的厚度为5～7nm；所述第七膜层Si₃N₄层(27)的厚度为35～40nm；所述第八膜层Si₃N_xO_y层(28)的厚度为10～15nm。

3.一种制备具有复合功能薄膜的可钢化镀膜玻璃的方法，其特征在于包括如下步骤：

步骤一、将新鲜玻璃基片（1）清洗、干燥；

步骤二、通过第一旋转阴极在该玻璃基板上磁控溅射沉积第一膜层的Si₃N₄层（21） ；

步骤三、通过第二旋转阴极在所述第一膜层上磁控溅射沉积第二膜层AZO层（22）；

步骤四、通过第一平面阴极在所述第二膜层上磁控溅射沉积第三膜层NiCr层（23）；

步骤五、通过第二平面阴极在所述第三膜层上磁控溅射沉积第四膜层Ag层（24）；

步骤六、通过第三平面阴极在所述第四膜层上磁控溅射沉积第五膜层NiCr层（25） ；

步骤七、通过第三旋转阴极在所述第五膜层上磁控溅射沉积第六膜层AZO层（26） ；

步骤八、通过第四旋转阴极在所述第六膜层上磁控溅射沉积第七膜层Si₃N₄层（27）；

步骤九、通过第四平面阴极在所述第七膜层上磁控溅射沉积第八膜层Si₃N_xO_y层（28）；

以上所有磁控溅射沉积步骤都是在真空条件下进行的，真空度为4×10^-6～6×10^-6mba。

4.根据权利要求3所述的一种制备具有复合功能薄膜的可钢化镀膜玻璃的方法，其特征在于上述步骤中在各阴极靶位之间设有气体隔离装置，所述气体隔离装置为分子泵结合插板阀和翻板阀结构。

5.根据权利要求3所述的一种制备具有复合功能薄膜的可钢化镀膜玻璃的方法，其特征在于步骤一选用存放期不超过一个周的新鲜玻璃原片，高纯度水清洗。

6.根据权利要求3所述的一种制备具有复合功能薄膜的可钢化镀膜玻璃的方法，其特征在于步骤三是通过第二旋转阴极在所述第一膜层上磁控溅射第二膜层ZnO₂、SnO₂的复合结构层。

7.根据权利要求3所述的一种制备具有复合功能薄膜的可钢化镀膜玻璃的方法，其特征在于步骤七是通过第三旋转阴极在第五膜层上磁控溅射第六膜层ZnO₂、SnO₂复合结构层。

8.根据权利要求3所述的一种制备具有复合功能薄膜的可钢化镀膜玻璃的方法，其特征在于在所有磁控溅射沉积的步骤中，真空度为2×10^-6mba～4×10^-6mba。