[发明专利]一种胶体溶液制备及镀膜装置及镀膜方法

权利要求书

1.一种胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，包括：

多组组分溶液存储容器；

每组组分溶液存储容器连接的一级组分溶液滴定速度控制器；

与每组组分溶液滴定速度控制器的出口连接的胶体溶液反应器；

与所述胶体溶液反应器出口连接的中间级组分溶液滴定速度控制器；

与中间级组分溶液滴定速度控制器连接的胶体溶液存储器；

与所述胶体溶液存储器的出口连接的末级组分溶液滴定速度控制器；

与所述末级组分溶液滴定速度控制器出口连接的导管；

以及，导管将胶体导入到的浸渍镀膜装置进行镀膜。

2.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，所述多组组分溶液存储容器包括至少两组。

3.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，所述浸渍镀膜装置包括镀膜槽，在镀膜槽底部设置多孔板将镀膜槽分割为两层，在镀膜槽的上层竖向设置多组平行的基材支撑器，所述基材支撑器上竖直方向安装多组基材，导管通入镀膜槽的底部，利用胶体溶液的流入/流出完成镀膜过程。

4.按照权利要求3所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，基材支撑器结构为带有对称沟槽的多组平行有机玻璃板，镀膜基材固定在对称沟槽中。

5.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，所述组分溶液存储容器为玻璃容器，容器上部为干燥管，下部有组分流出导管。

6.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，组分溶液滴定速度控制器速度控制范围2-12mL/min，控制精度±0.1mL/min。

7.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，胶体溶液反应器内置搅拌器以及温度控制器，进行均匀搅拌、加热、温度测量。

8.按照权利要求1所述的胶体溶液制备及镀膜装置，其特征在于，胶体注入和流出速度控制器的控制范围为1mm/min-10mm/min。

9.一种采用权利要求1-8任意一项所述的装置的镀膜方法，其特征在于，包括：

将配制胶体溶液所需的各个反应组分分别存储于组分溶液存储容器，开动各组分储罐的一级组分溶液滴定速度控制器，使各反应组分缓慢注入到胶体溶液反应器中，经恒温水浴锅搅拌、加热一定的反应时间，得到均匀透明的前驱体溶胶，

与胶体溶液反应器出口连接的中间级组分溶液滴定速度控制器，将配制的溶胶置于胶体溶液存储器中，陈化、待用；

将清洗好的基材固定于基材支撑器中，开启末级组分溶液滴定速度控制器，使胶体溶液存储器中的溶胶经胶体溶液流入/流出导管慢慢流入镀膜槽中；

当基材浸入溶胶中所需生长薄膜长度的高度后，关闭末级组分溶液滴定速度控制器，基材在溶胶中静置；

再次开启末级组分溶液滴定速度控制器，使镀膜槽中溶胶慢慢流回至胶体溶液存储器中，一次镀膜完成。