[发明专利]光源装置及其光滤波组件有效

专利信息
申请号: 201710136956.8 申请日: 2017-03-09
公开(公告)号: CN108572408B 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 洪健翔;林昇旺 申请(专利权)人: 台湾超微光学股份有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 李有财
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光源 装置 及其 滤波 组件
【说明书】:

一种光滤波组件包括第一干涉膜与第二干涉膜。第一干涉膜包括多层第一膜层与多层第二膜层。这些第一膜层与这些第二膜层彼此交替堆迭。第二干涉膜包括多层第三膜层与多层第四膜层。这些第三膜层与这些第四膜层彼此交替堆迭。第一膜层的光学常数与第三膜层的光学常数相同,第二膜层的光学常数与第四膜层的光学常数相同,而第一干涉膜所产生的光程差不同于第二干涉膜所产生的光程差。

技术领域

发明是有关于一种光源装置及其光滤波组件,且特别是有关于一种利用干涉(interference)来滤光的光滤波组件以及使用此光滤波组件的光源装置。

背景技术

现在的光学技术已发展出一种干涉滤波片(interference filter)。一般而言,干涉滤波片具有多层膜(multilayer),其是由两种不同光学常数(optical constant)的膜层(film)彼此交替堆迭而成,而这两种膜层都是透明(transparent)。依据这两种膜层的厚度分布以及光学常数,光线能在多层膜中进行建设性干涉(constructive interference)与破坏性干涉(destructive interference),使得干涉滤波片能让波长在特定范围内的光线通过,并且滤除波长在特定范围外的光线。然而,上述多层膜中的设计极限及膜层厚度制造误差(tolerance)而影响到干涉滤波片的滤光效果,以至于当干涉滤波片应用于例如光谱仪(spectrometer)、单光仪(monochromator)或干涉仪(interferometer)等光学量测仪器时,有可能会影响到精密度(precision)与准确度(accuracy)。

发明内容

本发明提供一种光滤波组件,其利用两干涉膜所产生的不同光程差(OpticalPath Difference,OPD)来改善滤光效果。

本发明另提供一种光源装置,其包括上述光滤波组件。

本发明所提供的光滤波组件包括一第一干涉膜与一第二干涉膜。第一干涉膜包括多层第一膜层与多层第二膜层,其中这些第一膜层与这些第二膜层彼此交替堆迭。第二干涉膜包括多层第三膜层与多层第四膜层,其中这些第三膜层与这些第四膜层彼此交替堆迭。第一膜层的光学常数相同于第三膜层的光学常数,而第二膜层的光学常数相同于第四膜层的光学常数。第一干涉膜与第二干涉膜皆位于一光束的传递路径上,而第一干涉膜所产生的光程差不同于第二干涉膜所产生的光程差。

本发明所提供的光源装置包括上述光滤波组件以及一光源,其中光源配置于光滤波组件旁,并用于朝向光滤波组件发出光束。

基于上述,本发明的光滤波组件利用厚度比例为常数的多层干涉膜来产生的不同光程差与干涉,进而改善滤光效果,从而帮助提升精密度与准确度。

上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举实施例,并配合附图,详细说明如下。

附图说明

图1A是本发明一实施例的光源装置的剖面示意图。

图1B是图1A中的光束个别通过第一与第二干涉膜之后的光谱(spectrum)示意图。

图1C是图1A中的光束通过光滤波组件之后的光谱示意图。

图2A是本发明另一实施例的光源装置的剖面示意图。

图2B是本发明另一实施例的光源装置的剖面示意图。

图2C至图2I是本发明另一实施例中的干涉膜的光学薄膜设计之示意图。

图3是本发明另一实施例的光源装置的剖面示意图。

图4A是本发明另一实施例的光源装置的剖面示意图。

图4B是本发明另一实施例的光源装置的剖面示意图。

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