[发明专利]接触插塞布局的制作方法

权利要求书

1.一种接触插塞布局的制作方法，包含有：

(a)接收多个主动区域图案与彼此平行的多个埋藏式栅极(buried gate)图案，该多个埋藏式栅极图案沿一第一方向延伸，并沿一第二方向排列，且该第一方向与该第二方向彼此垂直，该多个主动区域图案沿不同于第一方向和第二方向的方向延伸，分别与二埋藏式栅极图案重叠以于各主动区域图案内形成二个重叠区域以及该二个重叠区域之间的接触插塞区域；以及

(b)根据多个接触插塞区域形成多个接触插塞图案，各接触插塞图案包含一平行四边形形状，该平行四边形形状的内角不等于90度，且各个接触插塞图案完全重叠一接触插塞区域并且部分重叠该接触插塞区域两侧的二埋藏式栅极图案；以及

(c)输出接触插塞图案至一光掩膜上，该光掩膜是用来形成一动态随机存取存储器。

2.如权利要求1所述的接触插塞布局的制作方法，其中该多个主动区域图案分别包含一对第一短边与一对第一长边，该一对第一短边与该多个埋藏式栅极图案平行，而该一对第一长边与该多个埋藏式栅极图案包含有一夹角。

3.如权利要求2所述的接触插塞布局的制作方法，其中该夹角不等于90度。

4.如权利要求2所述的接触插塞布局的制作方法，其中该多个接触插塞图案分别包含一对第二短边与一对第二长边，该一对第二短边与该多个埋藏式栅极图案平行，且该一对第二长边与该多个主动区域图案的该一对第一长边平行。

5.如权利要求4所述的接触插塞布局的制作方法，其中该多个接触插塞图案的该一对第二短边之间的间距大于各主动区域图案的该二个重叠区域之间的间距。

6.如权利要求4所述的接触插塞布局的制作方法，其中分别于该多个主动区域内形成多个接触插塞图案的步骤还包含：

分别于该多个接触插塞区域上形成一第一矩形图案，该矩形图案分别包含一对第一边与一对第二边，且该一对第一边与该一对第二边彼此垂直；

延长多个第一矩形图案的该一对第一边或该一对第二边，以使该多个第一矩形图案形成一第二矩形图案；以及

重塑(reshaping)多个第二矩形图案以形成多个接触插塞图案，且该多个接触插塞图案包含平行四边形形状。

7.如权利要求6所述的接触插塞布局的制作方法，还包含一延长该多个接触插塞图案的该一对第二短边的步骤，进行于重塑多个第二矩形图案之后。

8.如权利要求1所述的接触插塞布局的制作方法，其中分别于该接触插塞区域上形成多个接触插塞图案的步骤还包含：

分别于该多个接触插塞区域上形成一矩形图案，且该矩形图案分别包含一对第一边与一对第二边，且该一对第一边与该一对第二边彼此垂直；

重塑(reshaping)多个矩形图案以形成多个菱形图案，该多个菱形图案分别包含一对第三边与一对第四边，且该一对第三边与二埋藏式栅极图案平行；以及

延长该多个菱形图案的多个第四边，以形成多个接触插塞图案，该多个接触插塞图案分别包含一平行四边形形状，且该平行四边形的内角不等于90°。

9.如权利要求1所述的接触插塞布局的制作方法，还包含：

将该光掩膜的接触插塞图案由该光掩膜转移至一材料层上，以形成多个接触插塞开口。