[发明专利]一种反射隔热陶瓷釉面砖的制备方法

权利要求书

1.一种反射隔热陶瓷釉面砖的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

1)将熔块原料混合，在熔块炉中熔制成熔块，熔制温度为1400～1600℃，至原料的完全熔融；熔块的主要化学组成如下：

2)将步骤1)制得的熔块与生料混合研磨制得釉浆，其中熔块占原料总质量的10％～100％，并且釉料中二氧化钛的含量不低于总质量的8％；

3)将步骤2)制得的釉浆施加在坯体上；

4)将步骤3)施有釉浆的坯体经过干燥后，在温度1100～1250℃烧成，烧成的时间为20～90min，制得反射隔热陶瓷釉面砖。

2.根据权利要求1所述的反射隔热陶瓷釉面砖的制备方法，其特征在于，所述原料包含粘土、高岭土、石英、氧化铝、长石、方解石、滑石、白云石、硅灰石、钛白粉、碳酸钡、碳酸锶、氧化锌、骨灰和锂辉石中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的反射隔热陶瓷釉面砖的制备方法，其特征在于，步骤3)所述釉浆通过喷釉器施加在坯体上。

4.根据权利要求1所述的反射隔热陶瓷釉面砖的制备方法，其特征在于，所述烧成是在辊道窑中进行。

5.根据权利要求1所述的反射隔热陶瓷釉面砖的制备方法，其特征在于，以质量百分比计，所述熔块的主要化学组成如下：

6.根据权利要求1所述的反射隔热陶瓷釉面砖的制备方法，其特征在于，所述反射隔热陶瓷釉面砖表面的太阳热反射层烧成后的厚度为0.1～3.0mm。