[发明专利]一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法

说明书

本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的线蒸镀源或者面蒸镀源在蒸镀过程中对待蒸镀基板上不同蒸镀区域的蒸镀膜层厚度不均匀的问题。包括蒸镀坩埚，还包括设置在蒸镀坩埚出口侧的多个蒸镀喷嘴，多个蒸镀喷嘴至少排列为一排。蒸镀坩埚内部包括有蒸镀材料空腔，蒸镀坩埚出口侧的侧壁设置有连通蒸镀材料空腔的贯通腔，蒸镀喷嘴包括喷头以及与喷头固定连接的活动部，喷头通过贯通腔与蒸镀材料空腔相连通，活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动，以使得喷头在活动部的带动下摆动。

技术领域

本发明涉及真空蒸发镀膜领域，尤其涉及一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法。

背景技术

真空蒸镀是指在真空环境中，将待成膜物质加热蒸发或升华后，使其在低温工件或基片表面凝结或沉积，形成镀层的工艺。在有机显示领域，有机显示器件的镀膜工艺好坏是影响有机显示器件功能优劣的关键因素。

对于中小尺寸有机显示器件的小世代线，通常采用点蒸镀源进行蒸镀，承载中小尺寸有机显示器件的基板在蒸镀过程中匀速旋转以使得基板上各不同位置处的材料蒸镀均匀。对于较大尺寸有机显示器件的大世代线，若采用点蒸镀源进行蒸镀，则蒸镀效率太低难以保证产线需求，因此，需要采用线蒸镀源或者面蒸镀源对较大尺寸有机显示器件进行蒸镀。

采用线蒸镀源或者面蒸镀源对较大尺寸有机显示器件进行蒸镀时，线蒸镀源或者面蒸镀源通过在蒸镀坩埚上排列固定的多个蒸镀喷嘴同时将加热气化的蒸镀材料在线(线蒸镀源)或面(面蒸镀源)的范围内喷出，承载较大尺寸有机显示器件的基板在蒸镀过程中匀速水平通过线蒸镀源或者面蒸镀源的蒸镀喷嘴上方即可完成较大尺寸有机显示器件的蒸镀。

由于线蒸镀源或者面蒸镀源上不同位置的蒸镀喷嘴分别对应待蒸镀基板上的固定的蒸镀区域，因此，极易导致待蒸镀基板上与各蒸镀喷嘴对应区域以及相邻蒸镀喷嘴之间所对应的区域的蒸镀膜层厚度不均匀，这种蒸镀膜层厚度的不均匀性会导致有机显示器件的亮度和色彩不均匀，从而影响有机显示器件成品的最终显示性能。

发明内容

本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，能够解决现有的线蒸镀源或者面蒸镀源在蒸镀过程中对待蒸镀基板上不同蒸镀区域的蒸镀膜层厚度不均匀的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面，提供一种蒸镀源，包括蒸镀坩埚，还包括设置在蒸镀坩埚出口侧的多个蒸镀喷嘴，多个蒸镀喷嘴至少排列为一排。蒸镀坩埚内部包括有蒸镀材料空腔，蒸镀坩埚出口侧的侧壁设置有连通蒸镀材料空腔的贯通腔，蒸镀喷嘴包括喷头以及与喷头固定连接的活动部，喷头通过贯通腔与蒸镀材料空腔相连通，活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动，以使得喷头在活动部的带动下摆动。

可选的，活动部为活动轴，活动轴一端设置于贯通腔侧壁、另一端固定连接在喷头侧壁上，活动轴平行于蒸镀坩埚出口侧所在的平面。

优选的，活动部为活动球，活动球内部中空且表面加工有开口，喷头通过活动球与蒸镀材料空腔相连通。其中，活动球的直径大于贯通腔在蒸镀坩埚出口侧上、下表面的直径且小于贯通腔在蒸镀坩埚出口侧中心横截面的直径。

优选的，蒸镀喷嘴的最大摆动角度小于等于90°。

进一步的，相邻两个蒸镀喷嘴的间距为10mm-200mm。

优选的，多个蒸镀喷嘴至少排列为两排时，相邻两排的蒸镀喷嘴交错设置。

进一步的，本发明实施例的蒸镀源，还包括控制器，控制器分别与每一个蒸镀喷嘴相连接，分别控制每一个蒸镀喷嘴的活动部在贯通腔内的转动。

本发明实施例的另一方面，提供一种蒸镀装置，包括上述的蒸镀源。