[发明专利]曝光设备

说明书

技术领域

本发明属于半导体加工技术领域，具体地讲，涉及一种曝光设备。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)由于具有画面稳定、图像逼真、消除辐射、节省空间以及节省能耗等优点，现已占据了平面显示领域的主导地位。TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)是目前主流的液晶显示器，而薄膜晶体管阵列基板(TFT-Thin Film Transistor)以及彩膜基板是其显示面板的主要构成部件。阵列基板以及彩膜基板的制备效率往往关系着整个显示装置的生产节拍。

在阵列基板以及彩膜基板的制备过程中，光刻工艺是非常重要的。目前的光刻工艺通常包括：涂敷光刻胶、前烘、曝光、显影以及后烘。其中，涂敷光刻胶是在前工序成膜后的基板上涂敷光刻胶；前烘是预热光刻胶，以及去除光刻胶的水分，增加光刻胶与基板之间的附着力；曝光是采用曝光光线通过掩膜板(或称光罩)照射在光刻胶上，将光刻胶感光；显影是通过显影液将感光部分的光刻胶去除掉，从而形成所需要的图案；后烘是将图案中未感光的光刻胶固化，同时增加与基板之间的附着力。

现有技术中的曝光设备主要包括用于提供平行曝光光线的光源、掩膜板以及曝光机台等。在曝光过程中，涂覆有光刻胶的基板放置在曝光机台上，光源提供的平行曝光光线经过掩膜板后垂直照射在基板上，使其形成与掩膜板一致的图案。但是在现有的曝光设备中，在一个生产节拍周期内只能使用一块掩膜板对一块基板进行曝光；同时，光源提供的曝光光线仅仅只有很少的一部分被利用，其他大部分光线都是没有得到充分利用而损失掉。因此，现有技术中的曝光设备不但曝光效率低下，而且造成了能源的浪费。

发明内容

为了解决上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种在提高曝光效率的同时，还能避免能源浪费的曝光设备。

根据本发明的一方面，提供了一种曝光设备，其包括：多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。

进一步地，所述多个平面曝光光罩彼此对应相连接，以合围形成一容置空间，所述光源设置于所述容置空间内。

进一步地，所述多个平面曝光光罩为至少一种多边形平面曝光光罩。

进一步地，所述多边形平面曝光光罩的形状为正多边形。

进一步地，所述多个平面曝光光罩被制作成具有磁性，使所述多个平面曝光光罩在连接时通过磁性相互吸合。

进一步地，彼此连接的两个平面曝光光罩之间通过结合件相连，所述结合件为卡榫结构、粘扣带结构或磁性体。

进一步地，所述曝光设备的外观形状选自正四面体、正六面体、正八面体、正十二面体、正二十面体及巴克球体中的一种。

进一步地，所述光源为球面光源，且所述光源提供给各个平面曝光光罩的光量相同。

本发明的有益效果：本发明的曝光设备能够在一个生产节拍周期内使用多块平面曝光光罩对多块基板进行曝光，同时能够全部利用光源提供的曝光光线，从而可以提高曝光效率，同时避免能源的浪费。

附图说明

通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：

图1是根据本发明的实施例的曝光设备的立体示意图；

图2是根据本发明的实施例的曝光设备的立体分解示意图；

图3是根据本发明的另一实施例的曝光设备的立体示意图。

具体实施方式

以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。在附图中，为了清楚器件，夸大了层和区域的厚度。

为了在一个生产节拍周期内使用多块掩膜板(或称曝光光罩)对多块基板进行曝光；同时，能够全部利用光源提供的曝光光线，本发明提供了一种曝光设备，该曝光设备包括：多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。以下将对上述的本发明提供的曝光设备进行详细说明。

图1是根据本发明的实施例的曝光设备的立体示意图。