[发明专利]光罩结构及COA型阵列基板

说明书

本发明提供一种光罩结构及COA型阵列基板。所述光罩结构包括中心遮光部(1)、包围所述中心遮光部(1)并与中心遮光部(1)的外轮廓形状一致的外围遮光部(3)、以及夹在所述外围遮光部(3)与中心遮光部(1)之间的环形的镂空狭缝(5)，曝光光线经过所述镂空狭缝(5)会发生衍射，产生传播反向的弯散及能量强度的渐变，配合负性光阻，能够使得最终制得的彩膜层过孔的坡度变缓，从而改善像素电极和金属材质的信号线之间的电连接质量，避免出现显示不良。

技术领域

本发明涉及液晶显示器件制程领域，尤其涉及一种光罩结构及COA型阵列基板。

背景技术

随着显示技术的不断发展，薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film TransistorLiquid Crystal Display，TFT-LCD)因具有高画质、省电、机身薄、体积小、无辐射等优点，而被广泛地应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为平板显示装置中的主流。

现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。传统的液晶显示面板由彩膜基板(Color Filter，CF)、薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。

目前，为了提高液晶显示面板的开口率，降低寄生电容效应，越来越多的液晶显示面板产品将彩膜集成设置在阵列基板一侧，即采用COA(Color Filter On Array)技术。与将彩膜和黑矩阵设在彩膜基板上的传统技术相比，COA型阵列基板不需要考虑对盒时的偏差，因此可以在保证黑矩阵能够遮挡栅极线、数据线和薄膜晶体管单元等需遮光的结构的前提下，适当减小黑矩阵的宽度，从而提高开口率。

如图1所示，现有的COA型阵列基板，其薄膜晶体管T10的阵列上依次层叠有保护层100、彩膜层200、像素电极300和黑矩阵(未图示)，并且彩膜层200上开设有过孔201，以实现像素电极300和金属材质的信号线之间的电连接。在实际的生产过程中，利用光罩(Mask)的图案配合负性光阻来制作所述彩膜层200内的过孔201。负性光阻的特性是被光照射的区域不会被显影液去除，而不被光照射的区域则会被显影液去除，这与正性光阻的特性恰好相反。

如图2所示，现有的用于制作所述彩膜层200内的过孔201的光罩所采用的图案是一实心圆形的遮光区900、以及位于该遮光区900外围的镂空的透光区901，所述实心圆形的遮光区900对应于所述彩膜层200内的过孔201的位置。然而，如图3所示，使用上述现有的光罩来制作所述彩膜层200内的过孔201会使得过孔201处彩膜层200的厚度以及坡度(Taper)不容易控制，坡度较陡，容易引起过孔201内的像素电极300发生断裂，导致像素电极300和金属材质的信号线之间的电连接不佳，从而出现产品的显示不良。若要保证良好的电连接就需要制作尺寸更大的过孔201，这无疑会降低像素开口率，并且过孔201太大的状况容易导致气体在对盒制程后极易因震动而外泄，并扩散至液晶层，从而产生泡影(Bubble)并形成黑团，影响显示效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光罩结构，能够使得彩膜层过孔的坡度变缓，改善像素电极和金属材质的信号线之间的电连接质量，避免出现显示不良。

本发明的目的还在于提供一种COA型阵列基板，其彩膜层过孔的坡度较缓和，能够改善像素电极和金属材质的信号线之间的电连接质量，避免出现显示不良。

为实现上述目的，本发明提供一种光罩结构，包括中心遮光部、包围所述中心遮光部并与中心遮光部的外轮廓形状一致的外围遮光部、以及夹在所述外围遮光部与中心遮光部之间的环形的镂空狭缝。