[发明专利]直接空穴注入层的白光有机发光器件及其制备方法

权利要求书

1.一种直接空穴注入层的白光有机发光器件，依次包括衬底、阳极、空穴注入层、发光层、电子注入层和阴极，其特征在于：空穴注入层由CBP︰(t-bt)₂I-r(acac)掺杂组成。

2.根据权利要求1所述的一种直接空穴注入层的白光有机发光器件，其特征在于，发光层由黄色发光层和蓝色发光层构成，其中，黄色发光层由CBP︰(t-bt)₂Ir(acac)掺杂组成，蓝色发光层由CBP︰FIrpic掺杂组成。

3.根据权利要求2所述的一种直接空穴注入层的白光有机发光器件，其特征在于，空穴注入层中(t-bt)₂I-r(acac)的掺杂重量比例为50％。

4.根据权利要求3所述的一种直接空穴注入层的白光有机发光器件，其特征在于，黄色发光层中(t-bt)₂Ir(acac)的掺杂重量比例为10％，蓝色发光层中Firpic的掺杂重量比例为8％。

5.根据权利要求4项所述的一种直接空穴注入层的白光有机发光器件，其特征在于，电子注入层为TPBi，阴极由Mg和Ag构成。

6.根据权利要求5所述的一种直接空穴注入层的白光有机发光器件，其特征在于，空穴注入层的厚度为30nm，黄色发光层的厚度为15nm，蓝色发光层的厚度为25nm，电子注入层的厚度为40nm。

7.一种直接空穴注入层的白光有机发光器件的制备方法，其特征在于，步骤如下：

(1)清洗ITO玻璃衬底；

(2)制备空穴注入层：将步骤(1)处理后的ITO玻璃衬底放入真空腔里，以CBP︰(t-bt)₂I-r(acac)的主客体掺杂作为空穴注入层材料进行混合蒸镀，掺杂比例为50％；

(3)制备黄色发光层：将步骤(2)处理后的ITO玻璃衬底放入有机真空腔体里，以CBP︰(t-bt)₂I-r(acac)的主客体掺杂作为发光层材料进行混合蒸镀，掺杂比例为10％；

(4)制备蓝色发光层：将步骤(3)处理后的ITO玻璃衬底放入有机真空腔体里，以CBP︰FIrpic的主客体掺杂作为发光层材料进行混合蒸镀，掺杂比例为8％；

(5)制备电子注入层：将步骤(4)处理后的ITO玻璃衬底放入有机真空腔体里，以TPBi材料作为电子传输层进行蒸镀；

(6)制备金属阴极。

8.根据权利要求7所述的一种直接空穴注入层的白光有机发光器件的制备方法，其特征在于，步骤如下：

(1)清洗ITO玻璃衬底；

(2)制备空穴注入层：将步骤(1)处理后的ITO玻璃衬底放入真空腔里，以CBP︰(t-bt)₂I-r(acac)的主客体掺杂作为空穴注入层材料进行混合蒸镀，掺杂比例为50％，待蒸镀室气压低于3×10^-4Pa，以的蒸镀速率，待厚度达到30nm之后，结束蒸镀；

(3)制备黄色发光层：将步骤(2)处理后的ITO玻璃衬底放入有机真空腔体里，以CBP︰(t-bt)₂I-r(acac)的主客体掺杂作为发光层材料进行混合蒸镀，掺杂比例为10％，待蒸镀室气压低于3×10^-4Pa，以的蒸镀速率，待厚度达到15nm，结束蒸镀；

(4)制备蓝色发光层：将步骤(3)处理后的ITO玻璃衬底放入有机真空腔体里，以CBP︰FIrpic的主客体掺杂作为发光层材料进行混合蒸镀，掺杂比例为8％，待蒸镀室气压低于3×10^-4Pa，以的蒸镀速率，待厚度达到25nm，结束蒸镀；

(5)制备电子注入层：将步骤(4)处理后的ITO玻璃衬底放入有机真空腔体里，以TPBi材料作为电子传输层，待蒸镀室气压低于3×10^-4Pa，以的蒸镀速率，待厚度达到40nm结束蒸镀。

(6)制备金属阴极：将步骤(5)处理后的ITO玻璃衬底放入金属真空沉积腔，以Mg和Ag做为金属阴极，待蒸镀室气压低于1.8×10^-3Pa，以的蒸镀速率得到厚度为200nm的金属薄膜。

9.根据权利要求8所述的一种直接空穴注入层的白光有机发光器件的制备方法，其特征在于，步骤(1)清洗ITO玻璃衬底的方法为：(a)设置好超声仪参数：温度30℃，时间15min，功率70w；(b)用无尘布沾上丙酮擦拭ITO玻璃衬底表面，直到肉眼观察到无颗粒杂质为止；(c)将擦洗干净的ITO玻璃衬底放置在聚四氟乙烯基片架上，再放入装洗涤剂的去离子水的烧杯中进行第一步超声清洗；(d)取出基片架，用丙酮冲洗后再放入装有丙酮的烧杯中进行第二步清洗；(e)用去离子水对ITO玻璃衬底进行第三步超声清洗，(f)取出基片架，用异丙醇冲洗后放入装有异丙醇的烧杯进行第四步清洗，(g)放入烘烤箱里20分钟，(h)将烘干的ITO玻璃衬底取出，放入玻璃皿中，再放入UV装置中进行UV照射15分钟。