[发明专利]电磁感应加热外延炉的双面基座结构

权利要求书

1.一种电磁感应加热外延炉的双面基座结构，其特征在于：包括表面涂覆有碳化硅涂层(1)的石墨基座(2)，该石墨基座(2)的上表面具有若干个绕轴心均布的片坑(3)，在所述石墨基座(2)的下表面具有与每一片坑(3)相对应的凸台(4)，每一凸台(4)的底面为平面，凸台(4)外周面与石墨基座(2)下表面形成垂直台阶。

2.根据权利要求1所述的电磁感应加热外延炉的双面基座结构，其特征在于：所述凸台(4)的高度与片坑(3)的深度相同。

3.根据权利要求1所述的电磁感应加热外延炉的双面基座结构，其特征在于：所述凸台(4)的直径与片坑(3)的最大直径相同。

4.根据权利要求1、2或3所述的电磁感应加热外延炉的双面基座结构，其特征在于：所述石墨基座(2)为6英寸平板基座，该石墨基座(2)的片坑(3)深度为0.65～0.75mm。

5.根据权利要求1所述的电磁感应加热外延炉的双面基座结构，其特征在于：所述凸台(4)的上下边沿设有圆弧倒角，该圆弧倒角的半径为0.2～0.4mm。

6.根据权利要求1所述的电磁感应加热外延炉的双面基座结构，其特征在于：所述片坑(3)的边沿设有圆弧倒角，该圆弧倒角的半径为0.2～0.4mm。

7.根据权利要求1所述的电磁感应加热外延炉的双面基座结构，其特征在于：所述石墨基座(2)为4、5、8、12或16英寸基座。

8.根据权利要求1所述的电磁感应加热外延炉的双面基座结构，其特征在于：所述石墨基座(2)为平板基座或桶式基座。

9.根据权利要求1所述的电磁感应加热外延炉的双面基座结构，其特征在于：所述石墨基座(2)应用于MOCVD或SiC外延设备。