[发明专利]铜系金属膜用蚀刻组合物

权利要求书

1.一种蚀刻组合物，其作为铜系金属膜用蚀刻组合物，包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物、多元醇型表面活性剂及两种以上有机酸混合物，

所述两种以上有机酸混合物必须包含柠檬酸，且柠檬酸与其他有机酸的重量比为0.9:1～1:0.9，

所述铜系金属膜是包含选自铜膜和铜合金膜中的一种以上膜、以及选自钼膜和钼合金膜中的一种以上膜的多层膜，

所述铜膜或铜合金膜的厚度为以上。

2.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，与所述柠檬酸混合的其他有机酸为乙醇酸。

3.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，相对于组合物总重量，其包含过氧化氢5～30.0重量％、含氟化合物0.01～5.0重量％、唑化合物0.1～5.0重量％、具有氮原子和羧基的水溶性化合物0.5～5.0重量％、磷酸盐化合物0.1～5.0重量％、多元醇型表面活性剂0.001～5.0重量％及两种以上有机酸混合物0.1～5.0重量％，并且包含余量的水以使组合物的总重量为100重量％。

4.根据权利要求1所述的蚀刻组合物，其均等地控制所述铜系金属膜的纵向及横向蚀刻速度。

5.一种微细图案的铜系金属配线，其利用权利要求1～4中任一项所述的蚀刻组合物来形成。

6.一种液晶显示装置用阵列基板，其包含权利要求5所述的微细图案的铜系金属配线。