[发明专利]具有蚀刻功能的可剥胶及蚀刻方法

说明书

本发明提供一种具有蚀刻功能的可剥胶及蚀刻方法，所述可剥胶包括：蚀刻剂0.05‑20份、树脂20‑80份、无机填料5‑20份，所述树脂为光固化树脂以及热固化树脂中的至少一种；在需要对基板上的导电膜层进行图案化处理加工时，直接将上述可剥胶涂覆在导电膜层上对导电膜层进行蚀刻，经高温固化和/或紫外线固化所述可剥胶后，将可剥胶剥离即可形成需要的导电图案，从而在对所述导电膜层进行图案化处理加工的过程中不需要经过去离子水冲洗以及烘烤等步骤，即，通过上述具有蚀刻功能的可剥胶能够实现免冲洗的蚀刻工艺。

技术领域

本发明涉及显示、触控、光伏领域，尤其涉及一种具有蚀刻功能的可剥胶及基于该可剥胶的蚀刻方法。

背景技术

纳米银及纳米铜透明导电膜具有柔性特征，因此，在柔性显示、触控传感器、太阳能电池、可穿戴设备等领域具有广泛的应用。在上述应用中，需要对导电层进行图案化处理加工，例如通过黄光蚀刻、丝网印刷蚀刻膏等方式进行加工。以丝网印刷蚀刻膏为例，其蚀刻过程包括蚀刻膏体印刷、烘烤、冲洗等工序。上述湿法蚀刻工艺都有至少一步去离子水冲洗步骤，水洗后需要烘烤以除去表面的水分。因此，迫切需要开发一种免冲洗的蚀刻工艺。

有鉴于此，有必要提供一种具有蚀刻功能的可剥胶及蚀刻方法以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具有蚀刻功能的可剥胶及蚀刻方法。

为实现上述发明目的，本发明采用如下技术方案：一种具有蚀刻功能的可剥胶，所述可剥胶包括：蚀刻剂0.05-20份、树脂20-80份、无机填料5-20份，所述树脂为光固化树脂以及热固化树脂中的至少一种。

作为本发明进一步改进的技术方案，所述蚀刻剂为过氧化物、过氧化物与酸或络合剂的混合物、硫单质、有机过硫化物、硫氰酸及其盐、硫醇、二价铜盐、三价铁盐、氧化性酸及其盐、二元胺及多元胺中的至少一种。

作为本发明进一步改进的技术方案，所述树脂为丙烯酸类树脂、聚氨酯树脂、苯乙烯类树脂、环氧树脂中的至少一种。

作为本发明进一步改进的技术方案，所述无机填料为纳米碳酸钙、纳米二氧化硅、纳米二氧化钛、纳米硫酸钡中的至少一种。

作为本发明进一步改进的技术方案，所述可剥胶的原料还包括：增塑剂5-20份。

作为本发明进一步改进的技术方案，所述增塑剂为邻苯二甲酸酯类、脂肪酸酯类、磷酸酯类、环氧酯类、多元醇酯类、氯蜡酯类中的至少一种。

作为本发明进一步改进的技术方案，所述可剥胶的原料还包括：颜料0.5-10份；所述颜料为群菁蓝、钴蓝、酞菁蓝中的一种。

作为本发明进一步改进的技术方案，所述可剥胶的原料还包括：其他功能性添加剂0.05-5份；所述其他功能性添加剂包括消泡剂、光引发剂、稳定剂、流平剂、偶联剂中的至少一种。

为实现上述发明目的，本发明还提供一种蚀刻方法，用以对基板上的导电膜层进行蚀刻，所述蚀刻方法包括如下步骤：将上述可剥胶涂覆在导电膜层上对所述导电膜层进行蚀刻，高温固化和/或紫外线固化所述可剥胶后，将可剥胶剥离从而形成导电图案。

本发明的有益效果是：本发明中的具有蚀刻功能的可剥胶，在需要对基板上的导电膜层进行图案化处理加工时，直接将上述可剥胶涂覆在导电膜层上对导电膜层进行蚀刻，经高温固化和/或紫外线固化所述可剥胶后，将可剥胶剥离即可形成需要的导电图案，从而在对所述导电膜层进行图案化处理加工的过程中不需要经过去离子水冲洗以及烘烤等步骤，即，通过上述具有蚀刻功能的可剥胶能够实现免冲洗的蚀刻工艺。

具体实施方式

以下将结合各实施方式对本发明进行详细描述。