[发明专利]光刻系统、在光刻系统内转移基板的装置及方法有效
申请号: | 201710164699.9 | 申请日: | 2012-05-01 |
公开(公告)号: | CN106919006B | 公开(公告)日: | 2020-03-13 |
发明(设计)人: | V.S.凯珀;E.斯洛特;M.N.J.范科温克;G.德博尔;H.J.德琼 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/677 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 系统 转移 装置 方法 | ||
1.一种用于在光刻系统内转移基板的基板转移装置,所述光刻系统包括与基板供应系统的接口和基板预备单元,与所述基板供应系统的接口用于接收未受夹箝的基板,所述基板预备单元用于将未受夹箝的基板夹箝至基板支承结构上;
其中所述装置包括主体,所述主体设置有第一组指部和第二组指部,所述第一组指部用于运载未受夹箝的基板,所述第二组指部用于运载基板支承结构,基板被夹箝在所述基板支承结构上;
其中所述第一组指部具有与所述第二组指部中的指部不同的形状,并且在所述第一组指部和所述第二组指部之间高度的差异超过所述基板支承结构的厚度。
2.如权利要求1所述的基板转移装置,其中,所述第一和第二组指部中的指部都从所述主体沿相同的方向延伸。
3.如权利要求1所述的基板转移装置,其中,所述第一组指部中的指部被布置成足够低于所述第二组指部中的指部,以便所述第一组指部中的指部不干扰由所述第二组指部运载的基板支承结构。
4.如前述权利要求中任一项所述的基板转移装置,其中,所述第二组指部中的指部具有长度从所述主体延伸超过所述基板支承结构的半径的相对的新月形结构的形式。
5.如权利要求4所述的基板转移装置,其中,所述第二组指部中的指部被布置成至少部分地环绕所述基板支承结构。
6.一种光刻系统,包括:
光刻装置,所述光刻装置被布置在用于使基板图案化的真空室内;
负载锁定系统,所述负载锁定系统用于将基板转移至所述真空室内或所述真空室外;
基板预备单元,所述基板预备单元用于将基板夹箝在基板支承结构上;
与基板供应系统的接口,所述接口用于接收未受夹箝的基板;和
如权利要求1至5中任一项所述的基板转移装置,所述基板转移装置用于在所述负载锁定系统、所述基板预备单元和所述接口之间转移基板。
7.如权利要求6所述的光刻系统,其中,所述负载锁定系统设置有另一个转移装置,所述另一个转移装置被布置成用于从所述基板转移装置接收基板支承结构,并将所述基板支承结构放置至所述光刻装置中,并且用于从所述光刻装置移除基板支承结构并将所述基板支承结构送至所述基板转移装置。
8.一种在如权利要求6所述的光刻系统中使用的用于运载基板的基板支承结构,所述基板支承结构包括:
主体,所述主体设置有用于容纳所述基板的表面;和
两个突出部,所述两个突出部用于与所述基板转移装置的所述第二组指部接合,所述两个突出部被定位成沿所述基板支承结构的周边,其中,所述突出部被放置在所述基板支承结构的质心上方的第一高度水平处。
9.如权利要求8所述的基板支承结构,其中,所述第一高度水平在所述基板支承结构和在其上夹箝的基板的组合的质心上方。
10.如权利要求8或9所述的基板支承结构,其中,所述两个突出部沿所述基板支承结构的一侧放置。
11.如权利要求10所述的基板支承结构,其中,所述基板支承结构还包括三个附加突出部,其中所述附加突出部中的两个被设置于沿所述基板支承结构的所述一侧放置的所述两个突出部之间位于所述第一高度水平处,并且其中所述附加突出部的第三突出部被设置于第二高度水平处在所述基板支承结构的另一个相反侧处,所述第二高度水平低于所述第一高度水平。
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