[发明专利]碱性蚀刻液组合物及应用其的蚀刻方法

权利要求书

1.一种碱性蚀刻液组合物，用以蚀刻含铜金属层，该碱性蚀刻液组合物包含：

氧化剂；

螯合剂；以及

有机胺化合物，至少包含碳原子与氮原子，其中该有机胺化合物包含伯胺化合物、醇胺化合物或其混合。

2.权利要求1所述的碱性蚀刻液组合物，其中该有机胺化合物包含该伯胺化合物与该醇胺化合物。

3.权利要求1所述的碱性蚀刻液组合物，其中该有机胺化合物包含甲胺、乙胺、丙胺、异丙胺、正丁胺、异丁胺、叔丁基胺、乙二胺、丙二胺、异丙二胺、丁二胺、乙醇胺、异丙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、异丁醇胺、二异丙醇胺、2-乙氨基乙醇、2-甲氨基乙醇或其混合。

4.权利要求1所述的碱性蚀刻液组合物，其中该氧化剂为过氧化氢。

5.权利要求1所述的碱性蚀刻液组合物，其中该螯合剂与铜的螯合常数为大于或等于6且小于或等于22。

6.权利要求1所述的碱性蚀刻液组合物，其中该螯合剂包含柠檬酸、葡萄糖酸、龙胆酸、水杨酸、N,N-二(2-羟乙基)甘氨酸、羟乙基亚氨基二乙酸、乙二胺四乙酸、三乙酸基胺、二亚乙基三胺五乙酸、亚氨基二乙酸、丙氨酸、天门冬氨酸、半胱氨酸、谷氨酸、甘氨酰甘氨酸、甘氨酰肌氨酸、组氨酸、白氨酸、肌氨酸、缬氨酸、甘氨酸、焦磷酸、有机磷酸类螯合剂、聚羧酸类螯合剂或其混合。

7.权利要求1至6中任一项所述的碱性蚀刻液组合物，其中基于该碱性蚀刻液组合物为100重量百分比，该碱性蚀刻液组合物包含：

3重量百分比至15重量百分比的该氧化剂；

4重量百分比至20重量百分比的该螯合剂；以及

5重量百分比至20重量百分比的该有机胺化合物。

8.权利要求1所述的碱性蚀刻液组合物，其中该碱性蚀刻液组合物的pH值为大于或等于8且小于或等于12。

9.权利要求1所述的碱性蚀刻液组合物，其中该含铜金属层包含第一金属层与设置于该第一金属层上之第二金属层，且该第二金属层为铜金属层。

10.权利要求9所述的碱性蚀刻液组合物，其中该碱性蚀刻液组合物对于该第二金属层与该第一金属层的蚀刻时间比为大于或等于1且小于或等于4.5。

11.一种蚀刻方法，包含：

使含铜金属层与权利要求1至6和8中任一项所述的该碱性蚀刻液组合物接触。

12.一种蚀刻方法，包含：

使含铜金属层与权利要求7所述的该碱性蚀刻液组合物接触。