[发明专利]一种镁合金基材的硅烷‑铈盐‑氢氧化镁复合涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种镁/镁合金基材的硅烷-铈盐-氢氧化镁复合涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

第一步，镁/镁合金基材预处理步骤

取镁/镁合金坯料，打磨去除表面的氧化层，用去离子水清洗干净后，20-60℃暖风吹干，备用；

第二步，氢氧化镁涂层的制备

将上述经过预处理的镁/镁合金基材置于水热反应釜中，注入质量百分比浓度为5％的氢氧化钠溶液，直至将镁/镁合金基材完全淹没在液面下；

然后，闭合水热反应釜并置于干燥箱中，在100～170℃下保温2～8h，取出，用去离子水冲洗洗净，得到表面沉积有氢氧化镁涂层的镁/镁合金；

第三步，复合涂层的制备

按质量比400-800:100-300:1200-1700:1-3的比例，分别取无水乙醇、硅烷偶联剂、去离子水和可溶性铈盐，备用；

将所取无水乙醇倒入容器中，依次加入硅烷偶联剂、去离子水，搅拌0.5-3小时，配成混合溶液A；

然后，向混合溶液A中加入可溶性铈盐，继续搅拌0.5-3小时，得到混合溶液B；

将上述表面沉积有氢氧化镁涂层的镁/镁合金置于混合溶液B的容器内，浸没在液面下，并置于干燥箱中，在50～70℃下组装2～3h；取出，用无水乙醇冲洗干净，再置于烘箱中，在100～150℃下烘干，即得。

2.根据权利要求1所述的镁/镁合金基材的硅烷-铈盐-氢氧化镁复合涂层的制备方法，其特征在于，所制得的硅烷-铈盐-氢氧化镁复合涂层的厚度为12-14μm、表面的接触角为151°、自腐蚀电位为-1.67V、自腐蚀电流密度为2.46×10^-8A/cm²。

3.根据权利要求1所述的镁/镁合金基材的硅烷-铈盐-氢氧化镁复合涂层的制备方法，其特征在于，所述硅烷为硅烷偶联剂，包括N-辛基三乙氧基硅烷、γ-丙基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、氯丙基三乙氧基硅烷、Y-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷或甲基三甲氧基硅烷；

所述可溶性铈盐为硝酸铈、硫酸铈、乙酸铈或硝酸铈铵。

4.根据权利要求1所述的镁/镁合金基材的硅烷-铈盐-氢氧化镁复合涂层的制备方法，其特征在于，所述镁合金包括如下牌号：AZ31、AZ91、AM50、Mg-0.5Ca、Mg-1Ca、Mg-1.5Ca、Mg-1Li-1Ca、Mg-1Li-1Ca-1Y、Mg-4Li-1Ca、Mg-4Li-1Ca-1Y、Mg-8Li-1Ca或Mg-8Li-1Ca-Y。