[发明专利]等离子体处理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理方法，其为在等离子体处理装置中执行的等离子体处理方法，其特征在于：

所述等离子体处理装置包括：

处理容器；

向所述处理容器内供给气体的气体供给系统；

第一电极和第二电极，该第一电极和第二电极以所述处理容器内的空间介于它们之间的方式设置；

输出高频的高频电源；

将所述高频电源与所述第一电极和所述第二电极中的一个电极连接的供电线路；

用于调整所述高频电源的负载阻抗的匹配器；和

求取包括所述高频电源的负载阻抗、负载电阻和负载电抗、以及所述高频的反射波系数中的任一者的参数的运算部，

在该等离子体处理方法中，依次执行多个循环，该多个循环各自包括依次执行的多个阶段，该多个阶段是在所述处理容器内生成相互不同的处理气体的等离子体的多个阶段，

在所述多个阶段的整个过程中，从所述高频电源向所述一个电极供给所述高频，

该等离子体处理方法包括：

在从所述多个阶段中的先实施的阶段转移至与该先实施的阶段连续的后续阶段时，切换所述气体供给系统所输出的处理气体的工序；和

在所述气体供给系统所输出的处理气体被切换后所述参数超出了阈值的时刻，改变从所述高频电源向所述一个电极供给的所述高频的设定的工序，其中，改变该高频的设定包括改变所述高频的功率、和/或将从所述高频电源向所述一个电极供给的所述高频由连续波和经过脉冲调制后的高频中的一方改变为另一方。

2.一种等离子体处理方法，其为在等离子体处理装置中执行的等离子体处理方法，其特征在于：

所述等离子体处理装置包括：

处理容器；

向所述处理容器内供给气体的气体供给系统；

第一电极和第二电极，该第一电极和第二电极以所述处理容器内的空间介于它们之间的方式设置，

输出高频的高频电源；

将所述高频电源与所述第一电极和所述第二电极中的一个电极连接的供电线路；

用于调整所述高频电源的负载阻抗的匹配器；

与所述第一电极连接、产生负极性的直流电压的直流电源；和

求取包括所述高频电源的负载阻抗、负载电阻和负载电抗、以及所述高频的反射波系数中的任一者的参数的运算部，

在该等离子体处理方法中，依次执行多个循环，该多个循环各自包括依次执行的多个阶段，该多个阶段是在所述处理容器内生成相互不同的处理气体的等离子体的多个阶段，

所述多个阶段在所述多个阶段的整个过程中从所述高频电源向所述一个电极供给所述高频，

该等离子体处理方法包括：

在从所述多个阶段中的先实施的阶段转移至与该先实施的阶段连续的后续阶段时，切换所述气体供给系统所输出的处理气体的工序；和

在所述气体供给系统所输出的处理气体被切换后所述参数超出了阈值的时刻，改变从所述高频电源向所述一个电极供给的所述高频的设定、以及由所述直流电源输出的所述直流电压的电平中的至少一方的工序，改变该高频的设定包括改变所述高频的功率、和/或将从所述高频电源向所述一个电极供给的所述高频由连续波和经过脉冲调制后的高频中的一方改变为另一方。

3.如权利要求1或2所述的等离子体处理方法，其特征在于，还包括：

在所述等离子体处理装置的时间调整部中，求取从转移至所述后续阶段时起至所述参数超出了所述阈值的所述时刻为止的时间差的工序；和

调整所述多个循环中在所述先实施的循环之后执行的循环中的与所述后续阶段相同的阶段的规定的执行时间长度，使其增加在所述多个循环中先实施的循环中求出的所述时间差的量的工序。

4.如权利要求1或2所述的等离子体处理方法，其特征在于，还包括：

在所述运算部中，使用由参数的系列求取的移动平均值，调整所述阈值的工序，

所述参数的系列包括：在所述多个循环中已执行的循环所包含的与所述后续阶段相同的阶段、或者所述后续阶段和所述已执行的循环所包含的与该后续阶段相同的阶段的各阶段中利用所述匹配器的阻抗匹配已完成的状态下的、包含所述高频电源的负载阻抗、负载电阻和负载电抗以及所述高频的反射波系数中的任一者的参数。