[发明专利]等离子体处理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理方法，其在等离子体处理装置中执行，所述等离子体处理方法的特征在于：

所述等离子体处理装置包括：

处理容器；

向所述处理容器内供给气体的气体供给系统；

第一电极和第二电极，该第一电极和第二电极以所述处理容器内的空间介于它们之间的方式设置；

输出第一高频的第一高频电源；

输出具有比第一高频的频率低的频率的第二高频的第二高频电源；

将所述第一高频电源与所述第一电极和所述第二电极中的一个电极连接的第一供电线路；

将所述第二高频电源与所述第二电极连接的第二供电线路；

用于调整所述第一高频电源的负载阻抗的第一匹配器；

用于调整所述第二高频电源的负载阻抗的第二匹配器；

求取第一参数的第一运算部，所述第一参数包括所述第一高频电源的负载阻抗、负载电阻和负载电抗、以及所述第一高频的反射波系数中的任一者；和

求取第二参数的第二运算部，所述第二参数包括所述第二高频电源的负载阻抗、负载电阻和负载电抗、以及所述第二高频的反射波系数中的任一者，

在该等离子体处理方法中依次执行多个循环，该多个循环各自包括依次执行的多个阶段，该多个阶段是在所述处理容器内生成相互不同的处理气体的等离子体的多个阶段，

该等离子体处理方法包括：

在从所述多个阶段中的第一先实施的阶段转移至第一后续阶段时，切换所述气体供给系统所输出的处理气体的工序，在该第一先实施的阶段中，向所述一个电极供给所述第一高频；

在从所述第一先实施的阶段转移至所述第一后续阶段时所述气体供给系统所输出的处理气体被切换后，在所述第一参数超出了第一阈值的第一时刻，使第二高频的功率增大的工序，从所述第一先实施的阶段起至少至所述第一时刻为止持续地向所述一个电极供给所述第一高频；

在从所述多个阶段中的第二先实施的阶段转移至第二后续阶段时，切换所述气体供给系统所输出的处理气体的工序，在该第二先实施的阶段中，向所述第二电极供给所述第二高频；和

在从所述第二先实施的阶段转移至所述第二后续阶段时所述气体供给系统所输出的处理气体被切换后，在所述第二参数超出了第二阈值的第二时刻，使第一高频的功率增大的工序，在从所述第二先实施的阶段起至少至所述第二时刻为止持续地向所述第二电极供给所述第二高频。

2.如权利要求1所述的等离子体处理方法，其特征在于，还包括：

在所述等离子体处理装置的时间调整部中，求取从转移至所述第一后续阶段时起至所述第一时刻为止的第一时间差的工序；

调整在所述多个循环中所述先实施的循环之后执行的循环中的与所述第一后续阶段相同的阶段的规定的执行时间长度，使其增加在所述多个循环中先实施的循环中求出的所述第一时间差的量的工序；

在所述时间调整部中，求取从转移至所述第二后续阶段时起至所述第二时刻为止的第二时间差的工序；和

调整在所述多个循环中所述先实施的循环之后执行的循环中的与所述第二后续阶段相同的阶段的规定的执行时间长度，使其增加在所述多个循环中先实施的循环中求出的所述第二时间差的量的工序。

3.如权利要求1或2所述的等离子体处理方法，其特征在于：

所述第一先实施的阶段是在向所述一个电极供给所述第一高频的状态下生成第一处理气体的等离子体的第一阶段，

所述第一后续阶段和所述第二先实施的阶段是接着所述第一阶段的第二阶段，在该第二阶段中，在向所述第二电极供给所述第二高频的状态下生成第二处理气体的等离子体，

所述第二后续阶段是接着所述第二阶段的第三阶段，在该第三阶段中，在向所述一个电极供给所述第一高频的状态下生成第三处理气体的等离子体。

4.如权利要求3所述的等离子体处理方法，其特征在于：

所述第一处理气体包含稀有气体和碳氟化合物气体，

所述第二处理气体包含稀有气体，

所述第三处理气体包含稀有气体和氧气。