[发明专利]对靶面光强分布进行匀滑的方法及其装置

权利要求书

1.一种对靶面光强分布进行匀滑的方法，其特征在于，包括：

通过光强调制器及连续相位板对经透镜出射在靶面上的激光束，进行光强分布匀滑调整，以在靶面上构成整块的匀滑焦斑分布。

2.如权利要求1所述的对靶面光强分布进行匀滑的方法，其特征在于，所述光强调制器的调制参数获取包括以下步骤:

预设靶面上匀滑调整后的光强分布I_target(x_f,y_f)，其中x_f、y_f分别为靶面的横、纵坐标；

经激光器发射的激光束的光强分布为I₀(x,y)，其中x、y分别为激光束截面的横、纵坐标；

对靶面的位相分布进行设计，以使得经透镜聚焦后的靶面光强分布轮廓等于激光束的轮廓，可得到靶面电场以及经过聚焦透镜后的电场E_obj(x,y)＝F[E_target(x_f,y_f)]，其中F为傅里叶变换；

通过公式计算电场E_obj(x,y)中的光强分布，其中*表示共轭；

设置激光束到靶面构成的光路中光强调制器的调制参数为I_obj(x,y)，进而使激光束的光强分布等于I_obj(x,y)。

3.如权利要求2所述的对靶面光强分布进行匀滑的方法，其特征在于，所述相位板的面形获得包括：

通过公式计算电场E_obj(x,y)中的位相分布，并基于计算结果制作对应面形的连续相位板；

将所述连续相位板插入到光路中靠近光强调制器的一侧，使激光束的位相分布等于此时激光束经聚焦透镜聚焦后在靶面光场分布恰好等于I_target(x_f,y_f)。

4.一种应用如权利要求1所述方法的装置，其特征在于，包括：

靶面；

用于产生出射至靶面激光束光路的激光器；

用于调整激光束出射后的光强分布的光强调制器；

对光强分布调整后的激光束进行位相分布调整的连续相位板；

对位相分布调整后的激光束聚焦至靶面的透镜。