[发明专利]一种掩膜版、曝光方法及装置

权利要求书

1.一种掩膜版，所述掩膜版上包括掩模图形区域，其特征在于，还包括：设置于所述掩模图形区域周围的图形标记，所述图形标记包括第一组和第二组，分别设置于所述掩模图形区域相对的两侧，所述第一组包括第一左标记、第二左标记和第三左标记，所述第二组包括第一右标记、第二右标记和第三右标记，所述第二左标记大于第三右标记，所述第二右标记大于第三左标记，各图形标记的位置满足：

所述第二左标记沿第一方向平移到所述第三右标记所在位置时，完全覆盖所述第三右标记，所述第二右标记沿所述第一方向平移到所述第三左标记所在位置时，完全覆盖所述第三左标记，且第一方向上，所述第三左标记与所述掩模图形区域的距离大于所述第二左标记与所述掩模图形区域的距离，所述第三右标记与所述掩模图形区域的距离大于所述第二右标记与所述掩模图形区域的距离，所述第三左标记与所述第二左标记的距离等于所述第三右标记与所述第二右标记的距离；

所述第二左标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离大于所述第一左标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离；

所述第二右标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离大于所述第一右标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离；

所述第一左标记和第一右标记对应的曝光位置位于当前曝光的小板对应的遮光挡板覆盖当前曝光的小板时的正常覆盖范围之内；

所述第一方向为水平方向或垂直方向。

2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第二左标记和第二右标记大小形状相同，所述第一左标记、所述第三左标记、第一右标记、第三右标记大小形状相同。

3.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一左标记和所述第一右标记对称，所述第二左标记和所述第二右标记对称，所述第三左标记和所述第三右标记对称，所述对称基于所述掩模图形区域的对称轴。

4.一种曝光方法，其特征在于，包括：

使用如权利要求1至3任一所述的掩膜版进行曝光得到基板上的小板，且曝光时满足；

曝光第一小板时，所述第二右标记在所述基板上对应第一曝光位置,所述第三右标记在所述基板上对应第二曝光位置，曝光所述第一小板相邻的第二小板时，所述第二左标记在所述基板上对应第三曝光位置，所述第三左标记在所述基板上对应第四曝光位置，所述第一曝光位置、第二曝光位置、第三曝光位置、第四曝光位置位于所述第一小板和所述第二小板之间，且：

所述第一曝光位置覆盖所述第四曝光位置，所述第三曝光位置覆盖所述第二曝光位置；

所述第一曝光位置和第二曝光位置位于所述第一小板对应的遮光挡板覆盖所述第一小板时的正常覆盖范围之外，所述第一小板与所述第二小板的中线位于所述第一曝光位置和所述第二曝光位置之间；

所述第三曝光位置和第四曝光位置位于所述第二小板对应的遮光挡板覆盖所述第二小板时的正常覆盖范围之外。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，使用如权利要求1至3任一所述的掩膜版进行曝光得到基板上的小板时，还满足：曝光任一小板时，所述第一左标记和所述第一右标记对应的曝光位置位于当前曝光的小板对应的遮光挡板覆盖当前曝光的小板时的正常覆盖范围之内。

6.如权利要求4或5所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

检测所述基板上相邻两个小板之间由所述图形标记曝光形成的光刻胶图形；

根据所述光刻胶图形判断遮光挡板的位置是否异常，并在判断所述遮光挡板的位置异常后，进行报警。