[发明专利]一种旋转式狭缝涂布模头及方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种涂布模头，具体涉及一种旋转式狭缝涂布模头及方法。

背景技术

涂布技术作为一种成熟、简便的技术广泛被用于薄膜成型领域，从传统的造纸、纺织到精密光学膜，以及近几年快速发展的太阳能电池、锂电隔膜等，均以涂布为主要的加工生产方式。狭缝式涂布技术目前一种较为重要的涂布技术，因为狭缝式涂布可控性好，涂布精度高，因此其被广泛应用于光电功能薄膜，显示行业。

目前，在利用狭缝涂布方法进行涂布的时候，药液注入模头过程中，垂直放置的涂布模头内部储液槽底部会先被填充满，随后液体的注入，会导致储液腔上部存在气体空间(也可以说成是气泡)残留，而这种残留会导致液体压力传导的舒缓，造成涂布时挤压流出的药液的不稳定性。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种可以消除储液腔内气体空间残留的旋转式狭缝涂布模头及方法。

为了达到上述目的，本发明的技术方案如下：

一种旋转式狭缝涂布模头，其包括模头，模头垂直布置，模头内设置有储液腔，储液腔分别连通进液口和出液口，进液口和出液口垂直布置，出液口沿着垂直方向将涂布液涂布于涂布对象的表面，模头还连接旋转驱动部，旋转驱动部驱动模头由垂直状态旋转为水平状态进行注液、再旋转为垂直状态并开始涂布。

本发明所提供的一种旋转式狭缝涂布模头，改进后，使得狭缝涂布模头结构不发生变化，在模头基础上添加与模头相连的旋转驱动部，将原来模头竖直方式注液形式改变为旋转模头后进行注液，后旋转机构至垂直状态开始涂布过程，可以有效地避免对模头进行更多的结构改变，减少因结构改变加工对溶液涂布精度的影响，整个操作过程简单且高效，并且克服液体的注入所导致的储液腔上部的气体空间残留，以此提高涂布时挤压流出的药液的稳定性。

在上述技术方案的基础上，本发明还可以作如下改进：

作为优选的方案，上述的储液腔沿着模头的长度方向向着模头的底部延伸。

采用上述优选的方案，可以便于涂布时的注液和出液。

作为优选的方案，上述的储液腔的第一侧面呈弧面。

采用上述优选的方案，可以使得溶液流动更为顺畅。

作为优选的方案，上述的储液腔的与第一侧面相对的第二侧面呈平面。

采用上述优选的方案，可以保证结构的稳固。

作为优选的方案，上述的模头连接模头支架，模头支架与旋转驱动部连接。

采用上述优选的方案，可以保证模头的安装稳固性，便于旋转驱动部的驱动。

作为优选的方案，上述的旋转驱动部为电机或机械臂。

采用上述优选的方案，能够以较优选的方式实施旋转驱动部。

作为优选的方案，上述的模头的纵截面呈倒置的梯形。

采用上述优选的方案，可以便于涂布。

一种旋转式狭缝涂布方法，其包括以下步骤：

1)旋转驱动部驱动模头由垂直状态旋转为水平状态；

2)通过进液口向模头的储液腔内注液；

3)旋转驱动部继续驱动模头由水平状态旋转为垂直状态；储液腔通过出液口开始对涂布对象的表面进行涂布。

本发明所提供的一种旋转式狭缝涂布方法，改进后，使得狭缝涂布模头结构不发生变化，在模头基础上添加与模头相连的旋转驱动部，将原来模头竖直方式注液形式改变为旋转模头后进行注液，后旋转机构至垂直状态开始涂布过程，可以有效地避免对模头进行更多的结构改变，减少因结构改变加工对溶液涂布精度的影响，整个操作过程简单且高效，并且克服液体的注入所导致的储液腔上部的气体空间残留，以此提高涂布时挤压流出的药液的稳定性。

附图说明

图1为本发明的一种旋转式狭缝涂布装置的结构示意图；

图2为本发明的一种旋转式狭缝涂布方法的实施步骤示意图。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本发明的优选实施方式。

为了达到本发明的目的，如图1至图2所示，在本发明的一种旋转式狭缝涂布模头的其中一些实施方式中，其包括模头1，模头1垂直布置，模头1内设置有储液腔11，储液腔11分别连通进液口12和出液口13，进液口12和出液口13垂直布置，出液口13沿着垂直方向将涂布液涂布于涂布对象的表面，模头1还连接旋转驱动部14，旋转驱动部14驱动模头1由垂直状态旋转为水平状态再旋转为垂直状态并开始涂布。

为了达到本发明的目的，如图1至图2所示，在本发明的一种旋转式狭缝涂布方法的其中一些实施方式中，其包括以下步骤：