[发明专利]一种无锆尖晶石微晶乳浊釉及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201710176121.5 申请日: 2017-03-23
公开(公告)号: CN106977099A 公开(公告)日: 2017-07-25
发明(设计)人: 吕明;蔡璟沛;吴建青;饶平根;彭诚 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C03C8/04 分类号: C03C8/04;C03C10/02;C04B41/86
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 何淑珍
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 尖晶石 微晶乳浊釉 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及陶瓷釉料领域,具体涉及一种无锆尖晶石微晶乳浊釉及其制造方法。

背景技术

为了遮盖坯体的颜色和某些缺陷, 丰富陶瓷产品的釉面装饰,乳浊釉被广泛地用于釉面装饰。硬底鞋带入的沙子(莫氏硬度7)可以使釉面产生划痕。若经长时间磨损,甚至可以露出斑驳的胎底色,自然影响耐久的装饰效果。目前建筑卫生陶瓷常用的乳浊釉有氧化锡系统乳浊釉、锆英石系统乳浊釉和氧化钛系统乳浊釉。氧化锡系统乳浊釉,乳浊效果好但价格昂贵,成本高;锆英石系统乳浊釉,由于锆化合物乳浊剂具有乳浊效果稳定,不受气氛影响和ZrSiO4硬度高(莫氏硬度7.5)等优点,在陶瓷行业被普遍使用。目前主要采用的含锆天然原料为锆英砂, 其主要成分为ZrSiO4(折射率1.94),此外还含有少量的稀土元素钍、铀和这些放射性元素衰变产生的铅等,常带有放射性或毒性,如果长期生活在具有放射性的建筑卫生陶瓷装饰的环境中, 会对人的健康造成潜在的危害,甚至可能影响下一代,且其资源越来越稀缺,价格近年来大幅度上涨;氧化钛在高温少成时易以锐钛矿从熔体中析出,使釉面变色。尖晶石微晶乳浊釉,釉层析出晶体为(Mg,Zn)Al2O4 尖晶石(折射率1.74~1.86,莫氏硬度8),控制晶粒大小为可见光波长,可对可见光的散射作用达到最强,达到普通锆白熔块釉的白度,提高釉面的硬度、耐磨性和抗划痕性,且降低生产成本。

发明内容

本发明的目的是提供一种无锆尖晶石微晶乳浊釉,釉层析出(Mg,Zn)Al2O4 尖晶石晶体,晶粒尺寸为300nm~1000nm,乳浊效果好,提高釉面的硬度、耐磨性和抗划痕性,降低生产成本,克服现有技术存在的上述缺陷。

本发明目的通过以下技术方案予以实现。

一种无锆尖晶石微晶乳浊釉,由以下重量分数的各组分组成:Na2O:1%~5%;K2O:1%~5%;Al2O3:20%~25%;CaO:2%~6%;MgO:7%~15%;ZnO:5%~8%;B2O3:2%~6%;余量为SiO2

优选地,所述无锆尖晶石微晶乳浊釉由以下重量分数的各组分组成 :Na2O:1.79%;K2O:2.68%;Al2O3:23.21%;CaO:3.57%;MgO:8.93%;ZnO:6.25%;B2O3:3.57%;SiO2:50.00%。

以上所述的一种无锆尖晶石微晶乳浊釉的制造方法,包括以下步骤:

(1)将钾长石、钠长石、方解石、石英粉、滑石、硼酸、氧化铝和煅烧氧化锌均匀混合,再熔制,然后水淬冷,球磨得到熔块粉末;

(2)向熔块粉末中加水球磨,得釉浆;

(3)将釉浆过筛;

(4)加水调节釉浆密度;

(5)喷釉,烧成,得无锆尖晶石微晶乳浊釉。

优选的,步骤(1)所述原料均匀混合后,1480℃~1500℃熔制45min~60min,然后水淬冷,球磨得到熔块粉末。

优选的,步骤(2)所述球磨时需要加熔块粉末重量3%~6%的高岭土,熔块粉末重量0.2%~0.5%的羧甲基纤维素和熔块粉末重量0.2%~0.5%的三聚磷酸钠。

优选的,步骤(3)所述过筛为过200~250网筛。

优选的,步骤(3)所述过筛时的筛余小于0.15wt%。

优选的,步骤(4)所述调节釉浆密度为1.5~1.6 g/cm3

优选的,步骤(5)所述烧成的制度为1200℃~1210℃保温8min~10min。

所述无锆尖晶石微晶乳浊釉的制造工艺流程如下:

原料检测→配料→均匀混合→在1480℃~1500℃保温45min~60min→水淬冷→球磨→过筛→制釉浆→上釉→烧成→成品。

与现有技术相比,本发明具有以下有益效果 :

本发明的无锆尖晶石微晶乳浊釉,其釉面硬度高、耐磨性好和抗划痕,不含锆英砂,不含任何放射性元素,成本低廉且乳白效果好,生产工艺与锆系乳浊熔块釉完全一样,可降低生产成本。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学,未经华南理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710176121.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top