[发明专利]一种水平方向对称的高阶超模方向耦合波导探测器有效

专利信息
申请号: 201710176436.X 申请日: 2017-03-23
公开(公告)号: CN106842421B 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 余学才;童文强;李林松;马朝阳 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12
代理公司: 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 代理人: 周永宏;王伟
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 水平 方向 对称 高阶超模 耦合 波导 探测器
【权利要求书】:

1.一种水平方向对称的高阶超模方向耦合波导探测器,其特征在于,包括从下往上依次设置的衬底层(1)、波导层(2)、吸收层(3)以及覆盖层(4);

所述波导层(2)由左波导(21)、中波导(22)和右波导(23)并排构成,左波导(21)和右波导(23)结构相同且呈水平对称分布设置;所述中波导(22)的表面中心位置有一入射光区域(5),光由入射光区域(5)入射进波导层(2),在波导层(2)内向前传播的同时被吸收层(3)吸收;

所述吸收层(3)包括第一吸收层(31)和第二吸收层(32),第一吸收层(31)放置于左波导(21)上,第二吸收层(32)放置于右波导(23)上;

所述覆盖层(4)包括第一覆盖层(41)和第二覆盖层(42),第一覆盖层(41)覆盖于第一吸收层(31)顶上,第二覆盖层(42)覆盖于第二吸收层(32)顶上。

2.根据权利要求1所述的高阶超模方向耦合波导探测器,其特征在于,所述衬底层(1)的材料为InP,折射率为3.14。

3.根据权利要求1所述的高阶超模方向耦合波导探测器,其特征在于,所述波导层(2)的材料为InGaAsP,折射率为3.3,厚度为5μm。

4.根据权利要求1所述的高阶超模方向耦合波导探测器,其特征在于,所述吸收层(3)的材料为InGaAs,折射率为3.56-0.1i,厚度为0.12μm。

5.根据权利要求1所述的高阶超模方向耦合波导探测器,其特征在于,所述覆盖层(4)的材料为InP,厚度为0.8μm。

6.根据权利要求1所述的高阶超模方向耦合波导探测器,其特征在于,所述左波导(21)、中波导(22)和右波导(23)的宽度均为5μm,波导层(2)的总宽度为15μm。

7.根据权利要求1-6任一所述的高阶超模方向耦合波导探测器,其特征在于,所述波导层(2)底端与衬底层(1)接触的部位设置有覆盖过渡层(6),用于限制光功率泄漏到空气中,降低能量损耗。

8.根据权利要求7所述的高阶超模方向耦合波导探测器,其特征在于,所述覆盖过渡层(6)的厚度为0.5μm。

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