[发明专利]一种基于多个单层膜堆叠的镀膜方法

权利要求书

1.一种基于多个单层膜堆叠的镀膜方法，其特征在于，该方法是先在多个基底上分别镀上单层膜，然后通过反向堆叠使其中两个单层膜上下堆积，经热处理后，再腐蚀掉上层基底，制得复合双层膜，通过反向堆叠使复合双层膜上再堆积一个单层膜，经热处理后，腐蚀掉上层基底，制得复合三层膜，依次重复反向堆叠、热处理、腐蚀，即可制得多个单层膜堆叠而成的复合膜，

所述的单层膜通过溶胶凝胶法镀附在基底上，所述的基底为纯度大于99％的铜箔基底，所述的腐蚀采用的腐蚀液为亚硫酸铵溶液。

2.根据权利要求1所述的一种基于多个单层膜堆叠的镀膜方法，其特征在于，所述的铜箔基底的厚度为0.01-0.1mm。

3.根据权利要求1所述的一种基于多个单层膜堆叠的镀膜方法，其特征在于，所述的热处理的条件为：控制温度为50-100℃，加热时间为1-5分钟。

4.根据权利要求1所述的一种基于多个单层膜堆叠的镀膜方法，其特征在于，所述的单层膜包括二氧化硅单层膜、二氧化锆单层膜或二氧化钛单层膜中的一种或几种。

5.根据权利要求4所述的一种基于多个单层膜堆叠的镀膜方法，其特征在于，所述的二氧化硅单层膜的折射率为1.43-1.47，所述的二氧化锆单层膜的折射率为2.14-2.20，所述的二氧化钛单层膜的折射率为2.63-2.67。