[发明专利]多层真空夹层一维光子晶体膜系结构有效
| 申请号： | 201710177817.X | 申请日： | 2017-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN107085248B | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | 沈诗雯;李志远;徐僖禧;欧阳一平;马汉青;孙哲;张志华 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;B32B5/14;B32B7/02;B32B7/04 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 赵志远 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多层 真空 夹层 光子 晶体 结构 | ||
1.多层真空夹层一维光子晶体膜系结构，其特征在于，该结构由多层高折射率材料薄膜层与厚度可调的真空薄层交替堆叠而成，形成单层膜与可调真空薄层的组合，上下相邻两高折射率材料薄膜层之间设有宽度调节器，所述的真空薄层分布在宽度调节器与上下相邻两高折射率材料薄膜层共同围设而成的空腔中，并且所述的可调真空薄层中还设有弹性支撑梁。
2.根据权利要求1所述的多层真空夹层一维光子晶体膜系结构，其特征在于，所述的高折射率材料薄膜层的折射率＞可调真空薄层的折射率。
3.根据权利要求1所述的多层真空夹层一维光子晶体膜系结构，其特征在于，所述的高折射率材料薄膜层的厚度为0.1-10μm。
4.根据权利要求1所述的多层真空夹层一维光子晶体膜系结构，其特征在于，所述的高折射率材料薄膜层包括二氧化钛薄膜层、五氧化二钽薄膜层、三氧化二钛薄膜层或二氧化锆薄膜层中的一种或几种。
5.根据权利要求4所述的多层真空夹层一维光子晶体膜系结构，其特征在于，所述的二氧化钛薄膜层的折射率为2.63-2.67，所述的五氧化二钽薄膜层的折射率为2.10-2.30，所述的三氧化二钛薄膜层的折射率为2.20-2.35，所述的二氧化锆薄膜层的折射率为2.14-2.20。
6.根据权利要求1所述的多层真空夹层一维光子晶体膜系结构，其特征在于，所述的真空薄层的厚度为0.1-10μm。
7.根据权利要求6所述的多层真空夹层一维光子晶体膜系结构，其特征在于，所述的真空薄层的真空度为0.01-100Pa。
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