[发明专利]一种药物涂层支架干燥方法在审
申请号: | 201710178209.0 | 申请日: | 2017-03-23 |
公开(公告)号: | CN106798953A | 公开(公告)日: | 2017-06-06 |
发明(设计)人: | 朱俊辉;戴全民 | 申请(专利权)人: | 苏州桓晨医疗科技有限公司 |
主分类号: | A61L31/02 | 分类号: | A61L31/02;A61L31/08;A61L31/10;A61L31/16;B05D3/04 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司32103 | 代理人: | 范晴 |
地址: | 215123 江苏省苏州市工*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 药物 涂层 支架 干燥 方法 | ||
技术领域
本发明涉及医学生物技术领域,具体涉及一种药物涂层支架干燥方法。
背景技术
药物洗脱支架需要利用载药涂层对药物进行装载,目前通常采用的方法为利用溶剂将药物和高分子载体共同溶解形成溶液,利用喷涂机将该溶液喷涂至金属支架表面形成一层含有药物的高分子载药层,为了使高分子在表面形成高分子膜,需要将溶剂蒸发干燥,留下高分子与药物,而溶剂中不仅包含四氢呋喃,甲乙酮等低沸点溶剂,还有N,N-二甲基乙酰胺等高沸点溶剂,常温很难挥发干燥。通常干燥采用高温干燥法,缺点在于温度过高,会损坏药物的效果,同时,烘箱内需要鼓风增加空气循环,增大了支架被污染的概率。
为了解决上述技术问题,本发明由此而来。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是克服现有技术中药物涂层支架干燥技术的缺陷,提供一种药物涂层支架干燥方法。
本发明的技术方案是,药物涂层支架干燥方法,其包括如下步骤:
(1)将药物涂层支架缓慢升温到46℃~52℃,
(2)然后抽真空,达到设定真空值时关闭真空阀,保持气压一段时间T1,然后开启气阀进气T2时间;
(3)重复上述步骤(2)0~20个循环。
本发明优选的技术方案中,所述步骤(1)中,药物涂层支架在2h~3h,升温到50℃。
本发明优选的技术方案中,所述步骤(2)中,设定的真空值为0.093~0.094MPa。
本发明优选的技术方案中,步骤(2)中,保持气压一段时间25min~80min,然后开启气阀进气10min~30min。
本发明优选的技术方案中,步骤(2)中,气阀的进气口加上过滤嘴,以去除空气中的尘埃颗粒。
本发明优选的技术方案中,当药物涂层支架装载的药物采用低沸点溶剂时,其干燥方法,包括如下步骤:
L1.将药物涂层支架缓慢升温到46℃~52℃,
L2.然后抽真空5~10min,达到真空值0.093~0.094MPa时关闭真空阀,等待5s,保持气压25min~35min,然后开启气阀进气15min~25min;
L3.等待1s,重复上述步骤(2)0-5个循环。
本发明优选的技术方案中,当药物涂层支架装载的药物采用高沸点溶剂时,其干燥方法,包括如下步骤:
H1.将药物涂层支架缓慢升温到46℃~52℃,
H2.然后抽真空5~10min,达到真空值0.093~0.094MPa时关闭真空阀,等待5s,保持气压60min~80min,然后开启气阀进气15min~25min;
H3.等待1s,重复上述步骤(2)10-20个循环。
本发明优选的技术方案中,药物涂层支架干燥方法,其包括如下步骤:对支架喷涂装载药物的低沸点溶剂,然后采用上述的低沸点溶剂干燥方法进行干燥;然后再对支架喷涂装载药物的高沸点溶剂,然后采用上述的高沸点溶剂干燥方法进行干燥。
本发明优选的技术方案中,所述低沸点溶剂包括但不限于四氢呋喃,异丙醇,2-丁酮等。
本发明优选的技术方案中,所述高沸点溶剂包括但不限于N,N-二甲基乙酰胺,乙二醇等。
涂层中N,N-二甲基乙酰胺的沸点超过160℃,常温很难完全挥发,若高温烘干,则会对涂层中所含的药物产生不良影响,使药物变性失效。本发明采取了抽负压的方式来提高高沸点溶剂的挥发速率,将真空干燥的温度设定为50℃,采用“抽负压-泄压”反复循环的干燥方式,抽负压一段时间后泄压,使空气进入真空烘箱,再抽负压,反复循环抽真空利用空气带走溶剂,促进溶剂挥发。为防止空气中的灰尘会污染到产品,在泄压口安装了过滤头,空气进入真空烘箱前经过滤头,除去空气中可能存在的灰尘等污染物,保持了支架涂层表面的清洁度。
本发明的优点在于:
1.通过抽真空减压的方法使溶剂沸点降低,促进各种溶剂的挥发,增加了干燥的效率。
2.在低压的条件下,干燥温度可以适当降低,保护了药物成分的活性。
3.在进气口加上过滤嘴去除空气中的尘埃颗粒,保持需干燥产品的清洁度。
具体实施方式
以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解,这些实施例是用于说明本发明而不限于限制本发明的范围。实施例中采用的实施条件可以根据具体厂家的条件做进一步调整,未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。
介绍和概述
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