[发明专利]二维量子点显示系统和方法在审
| 申请号： | 201710179113.6 | 申请日： | 2017-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN107132660A | 公开（公告）日： | 2017-09-05 |
| 发明（设计）人： | 邬剑波 | 申请（专利权）人： | 上海九山电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/22 | 分类号： | G02B27/22 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司31236 | 代理人： | 郭国中 |
| 地址： | 201315 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二维 量子 显示 系统 方法 | ||
1.一种二维量子点显示系统，其特征在于，包括激光投影设备、量子点；
多个量子点分布在二维空间中；
激光投影设备向所述多个量子点中的一部分量子点或者全部量子点发射激光束，激发量子点发光。
2.根据权利要求1所述的二维量子点显示系统，其特征在于，量子点被封装在透明介质中，激光束为不可见光或者单色光；对于每一个量子点，存在仅经过该量子点的直线，激光束沿该直线投射。
3.根据权利要求1所述的二维量子点显示系统，其特征在于，包括投影膜；量子点被封装在投影膜中，投影膜的数量为一个或多个；其中，多个投影膜之间层叠排布。
4.根据权利要求1所述的二维量子点显示系统，其特征在于，量子点之间按照点阵分布；或者，几个发射光谱不同的量子点形成一个量子点像素，量子点像素之间按照点阵分布。
5.根据权利要求3所述的二维量子点显示系统，其特征在于，对于多个投影膜，激光投影设备分布投射对应的切面图像；激光投影设备具体采用如下任一种方式：
-激光投影设备与量子点之间一对一对应投射；
-激光投影设备与量子点之间一对多对应投射；
-激光投影设备与投影膜之间一对一对应投射。
6.一种二维量子点显示方法，其特征在于，向多个量子点中的一部分量子点或者全部量子点发射激光束，激发量子点发光，其中，所述多个量子点分布在二维空间或三维空间中。
7.根据权利要求6所述的二维量子点显示方法，其特征在于，量子点被封装在透明介质中，激光束为不可见光或者单色光；对于每一个量子点，存在仅经过该量子点的直线，激光束沿该直线投射。
8.根据权利要求6所述的二维量子点显示方法，其特征在于，量子点被封装在投影膜中，投影膜的数量为一个或多个；其中，多个投影膜之间层叠排布。
9.根据权利要求6所述的二维量子点显示方法，其特征在于，量子点之间按照点阵分布；或者，几个发射光谱不同的量子点形成一个量子点像素，量子点像素之间按照点阵分布。
10.根据权利要求8所述的二维量子点显示方法，其特征在于，对于多个投影膜，激光投影设备分布投射对应的切面图像；激光束由激光投影设备投射，激光投影设备具体采用如下任一种方式：
-激光投影设备与量子点之间一对一对应投射；
-激光投影设备与量子点之间一对多对应投射；
-激光投影设备与投影膜之间一对一对应投射。
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