[发明专利]像素界定层、有机电致发光器件及其制备方法和显示装置

权利要求书

1.一种像素界定层，包括：

具有多个界定像素区域的开口的基底界定层，

设置在所述基底界定层的至少一个所述开口的侧面上的第一界定层，以及

设置在所述基底界定层的至少另一个所述开口的侧面上的第二界定层，

其中，所述基底界定层、所述第一界定层和所述第二界定层的材料互不相同，所述基底界定层的材料包括亲水性材料或者第一疏水性材料，所述第一界定层的材料包括第二疏水性材料，所述第二界定层的材料包括第三疏水性材料。

2.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述第一疏水性材料、所述第二疏水性材料和所述第三疏水性材料均包括氟化聚酰亚胺、氟化聚甲基丙烯酸甲酯或者氟化有机硅中的至少之一。

3.根据权利要求2所述的像素界定层，其中，当所述第一疏水性材料和所述第二疏水性材料或者所述第三疏水性材料仅氟化程度不同时，所述第一疏水性材料中氟化基团与未氟化基团的比值小于所述第二疏水性材料和所述第三疏水性材料中氟化基团与未氟化基团的比值。

4.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述亲水性材料包括无机亲水性材料或者有机亲水性材料，所述无机亲水性材料包括SiO₂、SiN_x或者SiON_x中的至少之一；所述有机亲水性材料包括聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯或者有机硅树脂中的至少之一。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的像素界定层，其中，去离子水在所述基底界定层上的接触角小于去离子水在所述第一界定层或者所述第二界定层上的接触角，且相差30°～90°。

6.根据权利要求5所述的像素界定层，其中，所述基底界定层的厚度为3～50μm，所述第一界定层和所述第二界定层的厚度为1～3μm。

7.一种有机电致发光器件，包括：

衬底基板；

设置在所述衬底基板上如权利要求1-6中任一项所述的像素界定层；

设置在所述基底界定层的开口中的有机功能层。

8.根据权利要求7所述的有机电致发光器件，其中，所述有机功能层包括层叠设置的空穴注入层和有机发光层。

9.根据权利要求8所述的有机电致发光器件，其中，所述空穴注入层的材料包括醇类、醚类和酯类中的至少之一和聚苯胺类导电高分子或者聚噻吩类导电高分子。

10.根据权利要求9所述的有机电致发光器件，其中，所述空穴注入层的材料在所述基底界定层上的接触角为0°～50°，所述空穴注入层的材料在所述第一界定层和/或所述第二界定层上的接触角为30°～90°，所述空穴注入层的材料在所述第一界定层和所述第二界定层上的接触角的差值在0°～10°之间。

11.一种显示装置，包括权利要求7-10中任一项所述的有机电致发光器件。

12.一种像素界定层的制备方法，包括：

形成具有多个界定像素区域的开口的基底界定层；

在所述基底界定层的至少一个所述开口的侧面上形成第一界定层，以及

在所述基底界定层的至少另一个所述开口的侧面上形成第二界定层，

其中，所述基底界定层、所述第一界定层和所述第二界定层的材料互不相同，所述基底界定层的材料包括亲水性材料或者第一疏水性材料，所述第一界定层的材料包括第二疏水性材料，所述第二界定层的材料包括第三疏水性材料。

13.一种有机电致发光器件的制备方法，包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成如权利要求1-6中任一项所述的像素界定层；

在所述基底界定层的开口中形成有机功能层。