[发明专利]阵列式喷嘴平面清洗装置和自清洗免维护静电净化系统

权利要求书

1.一种阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述阵列式喷嘴平面清洗装置包括固定设置的清洗喷嘴，每个所述清洗喷嘴具有至少一个出液口，每个待清洗平面至少具有一个所述出液口；所述每个清洗喷嘴具有一个或两个出液口，所述出液口的形状为狭缝；所述清洗喷嘴的出液口的狭缝为直线状。

2.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，任一个所述清洗喷嘴的出液口的出液端与其最接近的一个所述待清洗平面之间的距离为1mm～100mm。

3.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述阵列式喷嘴平面清洗装置中所有清洗喷嘴的出液口的狭缝相互平行；在清洗状态下，所述出液口的狭缝与所述待清洗平面平行。

4.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述出液口的狭缝宽度为0.1mm～2mm。

5.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述出液口的狭缝宽度为0.3mm～1mm。

6.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述清洗喷嘴包括导流部，所述导流部位于出液口的出液端，所述导流部与待清洗面的距离为1mm～5mm。

7.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述清洗喷嘴包括导流部，所述导流部位于出液口的出液端下部，所述导流部与所述待清洗面之间的角度为10°～60°。

8.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述清洗喷嘴脉冲喷射清洗液对所述待清洗平面冲刷清洗。

9.根据权利要求8所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述脉冲喷射压力≥0.01Mpa，脉冲喷射频率≥2次/分钟。

10.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述出液口伸入相邻且相对的两个待清洗平面之间的间隙；

或者，所述出液口的位置高于所述待清洗平面的顶端。

11.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述清洗喷嘴包括两侧相对设置的第一出液口和第二出液口，所述第一出液口和第二出液口的出液端分别设置有控制喷液方向的第一导流部和第二导流部，所述第一导流部和第二导流部分别与所述清洗喷嘴两侧的所述待清洗平面之间的角度一致。

12.根据权利要求11所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，相邻两个待清洗平面间具有隔板，所述清洗喷嘴底部、第一出液口和第二出液口之间具有上凹结构，所述上凹结构位于所述隔板上方，所述第一出液口和第二出液口分别伸入所述相邻的两个待清洗平面与其之间的隔板形成的两个间隙内。

13.根据权利要求1所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述阵列式喷嘴平面清洗装置包括进液口、分流管路、导流板；

所述进液口与所述分流管路相通，所述分流管路侧面开有分流孔或分流槽，所述分流孔或分流槽朝向所述导流板；

清洗液依次流经所述进液口、所述分流管路、所述分流孔或分流槽、所述导流板和所述清洗喷嘴，由所述出液口流出；

所述分流管路和所述导流板沿与所述清洗喷嘴出液口的狭缝垂直的方向延伸布置。

14.根据权利要求13所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述导流板的横截面具有凹型结构，所述分流管路位于所述凹型结构内，且所述分流孔或分流槽朝向所述导流板的凹型结构。

15.根据权利要求14所述的阵列式喷嘴平面清洗装置，其特征在于，所述导流板的凹型结构的横截面形状为弧形、V型或多边形。