[发明专利]彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板

说明书

本发明公开了一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底基板上形成色阻层；在形成有所述色阻层的衬底基板上形成转化层，所述转化层的厚度大于所述色阻层的厚度且所述转化层能够在预设光线照射下发生色彩转化；以所述预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，所述BM图案位于所述转化层靠近所述衬底基板的一侧。本发明通过在衬底基板上形成转化层，再以预设光线将转化层转化为BM图案和平坦层，而无需分两次形成BM图案和平坦层。解决了相关中制造彩膜基板的方法较为复杂的问题。达到了简化彩膜基板的制造方法的效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板。

背景技术

显示面板通常包括彩膜基板、阵列基板和形成于这两个基板之间的液晶层。其中，彩膜基板通常包括色阻层和黑矩阵(英文：Black Matrix；简称：BM)图形，其中色阻层可以包括多个子色阻层，每个子色阻层的颜色可以不同，黑矩阵图形用于将不同的子色阻层隔开。

相关技术中有一种彩膜基板的制造方法，在该方法中，首先在衬底基板上形成BM图案，然后在形成有BM图案的衬底基板上形成色阻层，再在形成有色阻层的衬底基板上形成平坦层(英文：Over Cover；简称：OC)，该平坦层用于降低形成有BM图案和色阻层的衬底基板上各个位置的段差。

在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：上述制造彩膜基板的方法较为复杂。

发明内容

为了解决现有技术制造彩膜基板的方法较为复杂的问题，本发明实施例提供了一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板。所述技术方案如下：

根据本发明的第一方面，提供了一种彩膜基板的制造方法，所述方法包括：

在衬底基板上形成色阻层；

在形成有所述色阻层的衬底基板上形成转化层，所述转化层的厚度大于所述色阻层的厚度且所述转化层能够在预设光线照射下发生色彩转化；

以所述预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，所述BM图案位于所述转化层靠近所述衬底基板的一侧。

可选的，所述转化层由不透明材质制成，

所述以预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，包括：

以所述预设光线从所述转化层远离所述衬底基板的一侧照射所述转化层，使所述转化层远离所述衬底基板的一侧的第一预设厚度的膜层转变为透明的平坦层，所述第一预设厚度大于所述转化层的厚度与所述色阻层的厚度的差值。

可选的，所述以所述预设光线从所述转化层远离所述衬底基板的一侧照射所述转化层，使所述转化层远离所述衬底基板的一侧的第一预设厚度的膜层转变为透明的平坦层，包括：

在所述转化层中不透明的膜层的厚度等于所述色阻层的厚度时，在所述转化层和所述预设光线的光源之间设置掩膜板，所述掩膜板用于阻挡所述预设光线照射到所述色阻层。

可选的，所述预设光线为紫外线，所述转化层中包括光催化剂，所述光催化剂用于使所述转化层照射到紫外线的部分转化为透明状态。

可选的，所述光催化剂包括二氧化钛、氧化锌和氧化锡中的至少一种。

可选的，所述光催化剂在所述转化层中的质量分数为0.1％至10％。

可选的，所述紫外线的波长为330微米至400微米，所述紫外线的照射时间为10分钟至40分钟。

可选的，所述转化层由透明材质制成，