[发明专利]一种射流抛光自清洗装置

权利要求书

1.一种射流抛光自清洗装置，其特征在于：包括溶液存储罐(2)、隔膜泵(3)、收集箱(7)、管路、磨料射流喷头(8)、去离子水喷头(12)、二位三通阀(13)、清洗压力泵(14)和去离子水存储罐(16)；

所述溶液存储罐(2)内盛放磨料射流溶液，收集箱(7)设置在溶液存储罐(2)上方；工件(5)设置在收集箱(7)内，并与收集箱(7)的入口位置相对应，所述收集箱(7)的出口通过二位三通阀(13)与溶液存储罐(2)连通；所述隔膜泵(3)也与溶液存储罐(2)连通，并通过管路连接磨料射流喷头(8)；所述去离子水存储罐(16)内盛放去离子水，所述清洗压力泵(14)与去离子水存储罐(16)连通，也通过管路连接去离子水喷头(12)；所述去离子水喷头(12)位于磨料射流喷头(8)一侧，两者分别喷射去离子水和磨料射流溶液并作用在工件(5)上。

2.根据权利要求1所述的射流抛光自清洗装置，其特征在于：所述装置还包括用于收集废液的废液存储罐(15)，其与二位三通阀(13)的出口连接，并与去离子水存储罐(16)、溶液存储罐(2)并列放置。

3.根据权利要求1或2所述的射流抛光自清洗装置，其特征在于：所述装置还包括控制器(4)，其分别连接隔膜泵(3)、清洗压力泵(14)和二位三通阀(13)，用于控制隔膜泵(3)和清洗压力泵(14)的开关、以及二位三通阀(13)的开关的逻辑顺序。

4.根据权利要求3所述的射流抛光自清洗装置，其特征在于：所述收集箱(7)采用矩形透明盒PVC，其包括箱体和顶盖，顶盖安装在箱体顶部；箱体内侧底部设置有安装工件(5)的固定台7c，顶盖中部加工有通孔作为入口7a，箱体侧面底端一侧加工有通孔作为出口7b，所述收集箱(7)的出口7b通过二位三通阀(13)与溶液存储罐(2)连通。

5.根据权利要求1或4所述的射流抛光自清洗装置，其特征在于：采用机架(1)作为安装载体，其内侧采用三层分布即上层、中层和下层，上层设置有磨料射流喷头(8)、去离子水喷头(12)、收集箱(7)，中层设置有二位三通阀(12)、控制器(4)以及清洗压力泵(14)，下层设置溶液存储罐(2)；所述隔膜泵(3)、去离子水存储罐(16)以及废液存储罐(15)置于机架(1)外侧。

6.根据权利要求5所述的射流抛光自清洗装置，其特征在于：采用夹持装置(9)用于固定磨料射流喷头(8)和去离子水喷头(12)。

7.根据权利要求1或6所述的射流抛光自清洗装置，其特征在于：所述工件(5)通过工件夹(6)安装在收集箱(7)的固定台7c上。

8.根据权利要求7所述的射流抛光自清洗装置，其特征在于：所述磨料射流喷头(8)位于收集箱(7)入口的正上方。