[发明专利]稳定生产高纯度食品级二氧化氯的辅助装置与系统

权利要求书

1.一种用于电解槽的扰流产生装置，其特征在于，包括：

多个螺旋状环流通道，该多个螺旋状环流通道是配置在一用来生产二氧化氯的电解槽的外周缘且该多个螺旋状环流通道中的每一个设有至少一冷却剂流入口；

一冷却剂供应单元，其是用于提供一冷却剂，当来自该冷却剂供应单元的该一冷却剂通过该冷却剂流入口分别流通这些螺旋状环流通道时，得以使该电解槽内的电解液产生扰流。

2.如权利要求1所述的用于电解槽的扰流产生装置，其特征在于，还包括一方向阀，在该方向阀的换向导流下，该冷却剂可被控制地由该冷却剂供应单元分别或同时流通设于该电解槽的这些螺旋状环流通道，借以产生不同程度的扰流。

3.如权利要求1或2所述的用于电解槽的扰流产生装置，其特征在于，这些螺旋状环流通道中的每一个还分别具有至少一冷却剂流出口，而分别供该冷却剂流出该螺旋状环流通道。

4.一种二氧化氯水溶液生产设备，其特征在于，包括：

一电解槽；

一如权利要求1、2或3所述的用于电解槽的扰流产生装置，其中，该扰流产生装置设于该电解槽的外周缘；

一供水处理系统，该供水处理系统提供经处理的纯水；以及

一成品混合槽，其用来接收该电解槽所产生的二氧化氯并将该二氧化氯与该供水处理系统所提供的该经处理的纯水进行混合，而产生二氧化氯水溶液。

5.如权利要求4所述的二氧化氯水溶液生产设备，其特征在于，该供水处理系统还包括一处理装置，该处理装置用于将来自一供水源的纯水进行处理而产生该经处理的纯水。

6.如权利要求5所述的二氧化氯水溶液生产设备，其特征在于，该处理装置包括至少一处理单元，该处理单元由氧化铝陶瓷、二氧化钛陶瓷、氧化锆陶瓷与纳米碳管中至少一者所制成，其中，该处理单元用于将该来自该供水源的该纯水进行处理。

7.如权利要求6所述的二氧化氯水溶液生产设备，其特征在于，该处理装置包括一第一处理单元与一第二处理单元，该第一处理单元由氧化铝陶瓷、二氧化钛陶瓷与氧化锆陶瓷中至少一者所制成；该第二处理单元由纳米碳管所制成，该第一处理单元与该第二处理单元彼此连接，以供将该纯水分别进行处理。

8.如权利要求7所述的二氧化氯水溶液生产设备，其特征在于，该处理装置还包括一储槽，该储槽设于该第一处理单元与该第二处理单元间，用于将通过该第一处理单元所处理的该纯水先进行储存，再由该储槽供应至该第二处理单元。

9.如权利要求8所述的二氧化氯水溶液生产设备，其特征在于，该储槽还设有一第三处理单元，用于将通过该第一处理单元所处理的该纯水进行过滤，再供应至该第二处理单元。

10.如权利要求9所述的二氧化氯水溶液生产设备，其特征在于，该第三处理单元为一RO逆渗透纯水机。