[发明专利]一种感光性树脂组合物及其应用

权利要求书

1.一种感光性树脂组合物，其特征在于，所述感光性树脂组合物由以下质量百分比的原料和溶剂组成：

碱溶性树脂：20-80％；

乙烯基不饱和单体：10-60％；

光引发剂：2-12％；

所述碱溶性树脂为含碳碳双键的聚乙烯醇缩醛树脂，含有以下IA)、IB)、IC)、ID)和IE)重复单元；

IA)重复单元：

其中R₁是氢、烷基、取代烷基、芳香基和取代芳香基，IA)的摩尔百分比为10-50％；

IB)重复单元：

其中R₂是氢、烷基、取代烷基、芳香基和取代芳香基，IB)的摩尔百分比为10-30％；

IC)重复单元：

其中IC)的摩尔百分比为20-40％；

ID)重复单元：

其中ID)的摩尔百分比为1-3％；

IE)重复单元：

其中R是H或甲基；R₃是氢、羟基、烷基、取代烷基、芳香基和取代芳香基；A是含羟基烷基；IE)的摩尔百分比为10-40％；

所述乙烯基不饱和单体为乙烯基单官能度和多官能度单体的一种或两种以上的组合；

所述光引发剂包括苯乙酮类化合物、噻吨酮类化合物、咪唑类化合物、苯偶姻化合物和三嗪类化合物的一种或两种以上的组合；

所述溶剂为烷醇类，乙二醇烷基醚乙酸酯类，乙二醇烷基醚丙酸酯类，乙二醇单烷基醚类，二乙二醇烷基醚类，丙二醇烷基醚类乙酸酯类，丙二醇烷基醚丙酸酯类，丙二醇单烷基醚类，二丙二醇烷基醚类，丁二醇单烷基醚类，二丁二醇烷基醚类中的至少一种。

2.一种半导体集成电路的绝缘平整化膜，其特征在于，所述绝缘平整化膜中含有如权利要求1所述的感光性树脂组合物。

3.一种半导体集成电路的绝缘平整化膜的图案形成方法，其特征在于，所述图案形成方法中使用了如权利要求1所述的感光性树脂组合物。