[发明专利]基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法有效

专利信息
申请号: 201710190760.7 申请日: 2017-03-28
公开(公告)号: CN106709855B 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 刘晶;陈进磊;何文娟 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: G06T1/00 分类号: G06T1/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 罗磊
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 基于 beamlet 特征 定位 模型 水印 方法
【权利要求书】:

1.基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1,嵌入水印;

步骤1.1,确定水印嵌入位置;

步骤1.1.1,计算三维模型顶点的一环邻域面积;

步骤1.1.2,依据步骤1.1.1计算的面积,从小到大取M个独立的一环邻域,并将它们投影在各自的一环邻域中心顶点的切面上,以中心顶点在切面上的投影为投影图像的坐标原点,中心顶点的切面为平面建立新坐标系;

步骤1.1.3,用8×8个像素大小的二维图像表示投影图像,提取投影图像的Beamlet线特征;

步骤1.2,嵌入二值水印信息b′;

修改Beamlet线特征相对应的顶点坐标,若修改Beamlet线特征左侧的顶点坐标,使与该顶点相连的两条网格边长度相等,则嵌入二值水印b′的信息位‘1’;若修改Beamlet线特征右侧的顶点坐标,使与该顶点相连的两条网格边长度相等,嵌入二值水印b′的信息位‘0’;

步骤1.3,将M个水印信息位依照步骤1.2嵌入到M个一环邻域内的相应顶点中,得到水印版三维模型;

步骤2,提取水印;

步骤2.1,确定携带水印信息的顶点;

步骤2.1.1,计算水印版三维模型顶点的一环邻域面积;

步骤2.1.2,依据步骤2.1.1计算的面积,从小到大取M个独立的一环邻域,并将它们投影在各自的一环邻域中心顶点的切面上,中心顶点在切面上的投影为投影图像的坐标原点;

步骤2.1.3,用8×8个像素大小的二维图像表示投影图像,提取投影图像的Beamlet线特征;

步骤2.2,提取二值水印信息b″;

步骤2.2.1,确定顶点嵌入的水印信息位:

若是Beamlet线特征左侧顶点的相连两条网格边长度相等,则携带水印信息位为‘1’;

若是Beamlet线特征右侧顶点的相连两条网格边长度相等,则携带水印信息位为‘0’;

依次提取M个一环邻域内相应的顶点中的二值水印信息b″;

步骤3,计算水印相关系数ρ,确定水印版三维模型嵌入二值水印信息b′;

其中,b′为嵌入步骤时所用的二值水印信息,b″为提取获得的二值水印信息;

当三维模型没有遭受任何攻击时,提取获得的二值水印序列b″与嵌入的水印序列b′一致,计算得到的相关系数ρ值应该为1;

当三维模型遭受攻击时,计算得到的相关系数ρ值应该小于1;若相关系数值ρ在(0.5,1]范围内,则可以验证此三维模型嵌入水印信息b′,算法具有强鲁棒性;若相关系数值ρ在[0,0.5]范围内,水印提取失败;此时,攻击使三维模型遭到严重破坏,模型失去应用价值,版权验证及版权保护已没有任何意义。

2.根据权利要求1所述的基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法,其特征在于,步骤1.1.2中所述的M个独立的一环邻域为M个不重叠的一环邻域。

3.根据权利要求1所述的基于Beamlet线特征定位的3D模型水印方法,其特征在于,步骤2.1.3中所述的提取Beamlet线特征在每个一环邻域进行,M个一环邻域提取M条Beamlet特征,定位M个水印信息位。

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