[发明专利]光学防伪元件、使用该光学防伪元件的产品及其制备方法

权利要求书

1.一种光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件包括：

基材，其被配置为是透明基材或半透明基材；

形成在所述基材的至少一个表面上的反射型元件，该反射型元件形成第一微结构；

至少部分地覆盖在形成为所述第一微结构的所述反射型元件上的亚波长结构，该亚波长结构形成第二微结构；以及

沉积在所述亚波长结构及未覆盖有所述亚波长结构的反射型元件上的镀层，表现为所述镀层覆盖以下两个区域：

在所述第一微结构上还覆盖有所述第二微结构的第一区域；以及

仅有所述第一微结构的第二区域。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述基材包括第一表面和第二表面，所述第一表面上形成有所述反射型元件，且所述第一表面、所述第二表面和/或所述反射型元件附着在透明载体上。

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述反射型元件是反射面镜或闪耀光栅。

4.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述反射型元件具有可变的方位角。

5.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长结构是亚波长微浮雕结构，且所述亚波长微浮雕结构包括亚波长光栅。

6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述镀层是高折射率材料层或由高折射率材料层和低折射率材料层依次层叠构成的介质叠层。

7.根据权利要求6所述的光学防伪元件，其特征在于，所述介质叠层具有法布里-泊罗谐振腔结构。

8.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长结构与所述反射型元件的排列方向相同或不同。

9.一种使用权利要求1至8中任意一项所述的光学防伪元件的产品。

10.一种光学防伪元件的制备方法，其特征在于，该制备方法包括：

提供基材，且所述基材被配置为透明基材或半透明基材；

在所述基材的至少一个表面上形成反射型元件，该反射型元件形成第一微结构；

在形成为所述第一微结构的所述反射型元件上至少部分地覆盖亚波长结构，该亚波长结构形成第二微结构；以及

在所述亚波长结构及未覆盖有所述亚波长结构的反射型元件上沉积镀层，表现为所述镀层覆盖以下两个区域：

在所述第一微结构上还覆盖有所述第二微结构的第一区域；以及

仅有所述第一微结构的第二区域。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，其中：

所述提供基材包括：提供包括第一表面和第二表面的透明基材或半透明基材；

并且，在所述第一表面上形成所述反射型元件，并将所述第一表面、所述第二表面和/或所述反射型元件附着在透明载体上。

12.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，在所述基材的至少一个表面上形成反射型元件包括：

通过电子束直刻方法或激光直刻方法制作反射面镜或闪耀光栅以作为所述反射型元件，并在制作过程中配置反射面镜或闪耀光栅的方位角具有变化，再将所述反射面镜或所述闪耀光栅形成在所述基材的至少一个表面上。

13.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述在所述反射型元件上至少部分地覆盖亚波长结构包括：

制作亚波长光栅以作为所述亚波长结构，并使所述亚波长光栅与所述反射型元件的排列方向相同或不同，再使所述亚波长光栅至少部分覆盖所述反射型元件。

14.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述镀层是高折射率材料层或由高折射率材料层和低折射率材料层依次层叠构成的介质叠层。