[发明专利]一种利用隐晶石墨大量制备氧化石墨烯量子点的方法

权利要求书

1.一种利用隐晶石墨大量制备氧化石墨烯量子点的方法，其特征在于包括以下步骤：

1）按照质量比称取隐晶石墨粉与硝酸钠，隐晶石墨粉与硝酸钠的质量比为5：1～1：5；同时量取硫酸溶液，所述的硫酸溶液的质量百分比浓度为10~98%，硫酸溶液与石墨粉的体积质量比为30～10ml：1g；

2）将石墨粉与硝酸钠、硫酸三相混合超声0.5-3小时，转移至冰水浴，然后搅拌1~3小时；

3）边搅拌边加入高锰酸钾，保持升温；加入的高锰酸钾与石墨粉的质量比为5：1～1：3；

4）滴加去离子水后加热升温；去离子水的加入量和隐晶石墨粉的质量比为20~60：1；

5）加水稀释至原体积的2~5倍并加入双氧水，混合搅拌后静置过夜；加入的双氧水和隐晶石墨粉的质量比为1~4:1；

6）倒去上层清液，加入盐酸溶液，直至混合均匀，离心清洗直至pH=7；所述的盐酸溶液和隐晶石墨粉的体积质量比为3~5ml：1g；

7）将步骤6）获得的溶液低温超声，离心分离，得到氧化石墨烯量子点。

2.根据权利要求1 中所述的一种利用隐晶石墨大量制备氧化石墨烯量子点的方法，其特征在于：所述的隐晶石墨粉为颗粒状，粒径为1-25微米。

3.根据权利要求1 中所述的一种利用隐晶石墨制备氧化石墨烯量子点的方法，其特征在于：所述的冰水浴温度为0～10℃。

4.根据权利要求1 中所述的一种利用隐晶石墨大量制备氧化石墨烯量子点的方法，其特征在于：所述的高锰酸钾在0.5～2小时内加完，升温至10～90℃。

5.根据权利要求1 中所述的一种利用隐晶石墨大量制备氧化石墨烯量子点的方法，其特征在于：步骤4）中，加入去离子水，升温至10～100℃，保持0.5～3小时。

6.根据权利要求1 中所述的一种利用隐晶石墨大量制备氧化石墨烯量子点的方法，其特征在于：步骤6）中，离心速率在3000r～20000r，离心时间为10-60分钟。

7.根据权利要求1 中所述的一种利用隐晶石墨大量制备氧化石墨烯量子点的方法，其特征在于：步骤7）中，超声温度保持在0～60℃，超声时间为0.5～10小时。

8.根据权利要求1 中所述的一种利用隐晶石墨大量制备氧化石墨烯量子点的方法，其特征在于：所述的双氧水质量百分百浓度为10%～70%。

9.根据权利要求1 中所述的一种利用隐晶石墨大量制备氧化石墨烯量子点的方法，其特征在于：所述盐酸的质量百分比浓度为5%～30%。