[发明专利]一种镁合金高亮镜面的表面处理方法、镁合金复合材料在审
申请号: | 201710199708.8 | 申请日: | 2017-03-30 |
公开(公告)号: | CN106893985A | 公开(公告)日: | 2017-06-27 |
发明(设计)人: | 刘林兴 | 申请(专利权)人: | 刘林兴 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/26;C23C14/06;C23C14/08 |
代理公司: | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙)32251 | 代理人: | 刘计成 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镁合金 高亮镜面 表面 处理 方法 复合材料 | ||
1.一种镁合金高亮镜面的表面处理方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将羊毛脂或者脱脂棉在酒精中完全浸润后,固定在夹具上,对衬底进行往返式抛光;
(2)在真空环境下,使用红外加热灯对衬底进行加热,同时,采用电子枪对第一陶瓷类介质进行加热,第一陶瓷类介质蒸发附着在衬底表面,形成底层薄膜层;
(3)在真空清洁的条件下,充入惰性气体,对底层薄膜层进行离子轰击处理;
(4)在真空环境下,使用红外加热灯对步骤(3)的产物进行加热;同时,采用电子枪对第二陶瓷类介质进行加热,第二陶瓷类介质蒸发附着在底层薄膜表面,形成介质薄膜层;
(5)在真空环境中,使用电子枪对第三陶瓷类介质进行加热,第三陶瓷类介质蒸发附着在介质薄膜层表面,形成介质过镀薄膜层;
(6)对介质过镀薄膜层进行离子轰击处理;
(7)在真空环境下,采用电阻加热蒸发的方式在介质过镀薄膜层的表面形成氟化物层。
2.根据权利要求1所述的一种镁合金高亮镜面的表面处理方法,其特征在于,所述步骤(1)中酒精的纯度大于或等于99.99%;抛光时,施加的压力为2.5~3.5N。
3.根据权利要求1所述的一种镁合金高亮镜面的表面处理方法,其特征在于,所述步骤(2)抽真空至1.0E-3Pa~5.0E-3Pa;红外加热温度区间80℃~150℃。
4.根据权利要求1所述的一种镁合金高亮镜面的表面处理方法,其特征在于,所述步骤(3)抽真空至6.0E-3PA;离子轰击处理时间为3~6min。
5.根据权利要求1所述的一种镁合金高亮镜面的表面处理方法,其特征在于,所述步骤(4)抽真空至13Pa~8.0E-3Pa;红外加热温度区间80℃~150℃。
6.根据权利要求1所述的一种镁合金高亮镜面的表面处理方法,其特征在于,所述步骤(5)的抽真空至1.0E-3Pa~5.0E-3Pa。
7.根据权利要求1所述的一种镁合金高亮镜面的表面处理方法,其特征在于,所述步骤(6)的离子轰击处理时间为3~10min。
8.根据权利要求1所述的一种镁合金高亮镜面的表面处理方法,其特征在于,所述步骤(7)的抽真空至1.0E-3Pa~5.0E-3Pa,所述氟化物为MgF2或CeF3。
9.一种使用如权利要求1-8任一项所述的镁合金高亮镜面的表面处理方法处理得到的镁合金复合材料,其特征在于,所述镁合金复合材料从内之外依次包括衬底层、底层薄膜层、介质薄膜层、介质过镀薄膜层、氟化物层。
10.根据权利要求9所述的镁合金复合材料,其特征在于,所述底层薄膜层厚度为0.01~0.1um;所述介质薄膜层的厚度为0.2~1.5um;所述介质过镀薄膜层的厚度为0.01~0.03um;所述氟化物层的厚度为0.1um~0.2um。
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