[发明专利]一种流体动压抛光方法及装置有效
申请号: | 201710200910.8 | 申请日: | 2017-03-30 |
公开(公告)号: | CN107175559B | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 钟波;陈贤华;文中江;王健;许乔;谢瑞清;赵世杰;李洁 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | B24B13/00 | 分类号: | B24B13/00;B24B41/02;B24B49/00;B24B57/02 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吴开磊 |
地址: | 610000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 流体 抛光 方法 装置 | ||
1.一种流体动压抛光方法,其特征在于,应用于包括气囊抛光工具、精密测力台、精密位移台以及抛光液供给系统的流体动压抛光装置,其中,所述精密测力台位于所述精密位移台之上,待抛光工件位于所述精密测力台之上,所述方法包括:
通过所述精密测力台与精密位移台使所述气囊抛光工具与待抛光工件之间达到临界接触状态;
抛光时,由所述抛光液供给系统向所述气囊抛光工具与待抛光工件之间供给抛光液,并控制所述气囊抛光工具转动以带动所述抛光液在所述待抛光工件与该气囊抛光工具之间产生流体动压。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,通过所述精密测力台与精密位移台使所述气囊抛光工具与待抛光工件之间达到临界接触状态的步骤包括:
利用所述精密测力台测量所述气囊抛光工具在转动靠近所述待抛光工件的过程中,对所述待抛光工件的作用力是否达到预设压力范围;
若对所述待抛光工件的作用力达到了所述预设压力范围,控制所述气囊抛光工具停止转动靠近,并调节所述精密位移台使所述待抛光工件逐渐远离所述气囊抛光工具直至所述精密测力台测量的压力值首次为零。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述气囊抛光工具包括球形橡胶气囊以及贴附于所述球形橡胶气囊上的抛光垫;
在通过所述精密测力台与精密位移台使所述气囊抛光工具与待抛光工件之间达到临界接触状态的步骤之前,该方法还包括:
对所述气囊抛光工具进行修整以矫正存在的误差因素,其中,所述误差因素包括所述球形橡胶气囊的制造误差、所述抛光垫的厚度误差以及所述球形橡胶气囊与抛光垫的粘贴误差。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,在对所述气囊抛光工具进行修整以矫正存在的误差因素的步骤之后,该方法还包括:
控制所述球形橡胶气囊倾斜预设角度以使所述球形橡胶气囊的转动轴线与待抛光工件加工点的法线形成所述预设角度的进动角。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,该方法还包括:
通过所述精密测力台检测获取抛光过程中所述待抛光工件被作用的正向力和反向力数据,以用于分析和优化所述抛光过程。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,该方法还包括:
抛光时,通过所述抛光液供给系统对抛光液供给量和抛光液浓度进行实时控制,并回收从所述气囊抛光工具周围排出的抛光液进行过滤以循环供给。
7.一种流体动压抛光装置,其特征在于,该装置包括气囊抛光工具、精密测力台、精密位移台以及抛光液供给系统,其中,所述精密测力台位于所述精密位移台之上,待抛光工件位于所述精密测力台之上;
所述精密测力台与精密位移台用于互相配合以使所述气囊抛光工具与待抛光工件之间达到临界接触状态;
所述抛光液供给系统用于在抛光时向所述气囊抛光工具与待抛光工件之间供给抛光液;
所述气囊抛光工具用于在抛光时被控制转动以带动所述抛光液在所述待抛光工件与该气囊抛光工具之间产生流体动压。
8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述精密测力台与精密位移台互相配合以使所述气囊抛光工具与待抛光工件之间达到临界接触状态的方式包括:
所述精密测力台测量所述气囊抛光工具在转动靠近所述待抛光工件的过程中,对所述待抛光工件的作用力是否达到预设压力范围;
若对所述待抛光工件的作用力达到了所述预设压力范围,控制所述气囊抛光工具停止转动靠近,并调节所述精密位移台使所述待抛光工件逐渐远离所述气囊抛光工具直至所述精密测力台测量的压力值首次为零。
9.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述精密测力台还用于检测获取抛光过程中所述待抛光工件被作用的正向力和反向力数据,以用于分析和优化所述抛光过程。
10.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述抛光液供给系统还用于在抛光时对抛光液供给量和抛光液浓度进行实时控制,并回收从所述气囊抛光工具周围排出的抛光液进行过滤以循环供给。
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