[发明专利]一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚和具有该坩埚的源炉

权利要求书

1.一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚，其特征在于：坩埚(100)设置为直筒形，且没有顶部的外沿，且坩埚顶部(110)外壁与坩埚底部(120)外壁等径，用于减少坩埚顶部(110)的热辐射；坩埚顶部(110)设置有定位垫片(130)，定位垫片(130)用于固定坩埚顶部(110)，定位垫片(130)材料的黑度系数小于坩埚(100)材料的黑度系数。

2.根据权利要求1所述的一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚，其特征在于：定位垫片(130)的垫片内圈(131)的半径大于坩埚顶部(110)的外径，定位垫片(130)与坩埚顶部(110)之间设置有间隙，所述垫片内圈(131)上设置有定位凸块(132)，该定位凸块(132)与坩埚顶部(110)相接处，定位凸块(132)用于固定坩埚顶部(110)。

3.一种提高蒸发束流稳定性的源炉，其特征在于：包括坩埚(100)、蒸发源(200)和加热单元(300)，所述的坩埚(100)设置于蒸发源(200)内，坩埚(100)的外部设置有加热单元(300)，该加热单元(300)用于对坩埚(100)进行加热，所述坩埚(100)为权利要求1或2所述的坩埚(100)。

4.根据权利要求3所述的一种提高蒸发束流稳定性的源炉，其特征在于：坩埚(100)还包括定位垫片(130)，该定位垫片(130)为圆环形；所述的定位垫片(130)套装于坩埚顶部(110)，定位垫片(130)用于固定坩埚顶部(110)。

5.根据权利要求3所述的一种提高蒸发束流稳定性的源炉，其特征在于：坩埚(100)的开口方向上设置有束流挡板(400)。

6.根据权利要求3-5任一项所述的一种提高蒸发束流稳定性的源炉，其特征在于：所述蒸发源(200)包括保护外罩(210)和固定基座(220)，保护外罩(210)内设置有容纳腔(211)，所述固定基座(220)设置于容纳腔(211)的底部，该固定基座(220)用于固定坩埚底部(120)。

7.根据权利要求6所述的一种提高蒸发束流稳定性的源炉，其特征在于：所述的保护外罩(210)的顶部设置有与定位垫片(130)相配合的垫片槽(212)，该垫片槽(212)用于固定定位垫片(130)。

8.根据权利要求6所述的一种提高蒸发束流稳定性的源炉，其特征在于：所述的固定基座(220)上设置有测温元件(221)，测温元件(221)用于检测坩埚(100)的温度。

9.根据权利要求7所述的一种提高蒸发束流稳定性的源炉，其特征在于：所述的定位垫片(130)的厚度小于垫片槽(212)的深度。