[发明专利]遮光膜用感光性树脂组合物、显示器用基板及其制造方法

说明书

本发明提供一种遮光膜用感光性树脂组合物、显示器用基板及其制造方法，所述组合物适于对耐热性至多为160℃的塑料基板等形成遮光膜，可获得耐溶剂性或耐碱性优异的遮光膜。本发明的遮光膜用感光性树脂组合物含有(A)具有环氧(甲基)丙烯酸酯酸加成物的结构的含聚合性不饱和基的碱溶性树脂、(B)具有至少三个乙烯性不饱和键的光聚合性单体、(C)肟酯系聚合引发剂、(D)偶氮系聚合引发剂以及(E)选自由黑色有机颜料、混色有机颜料及遮光材料所组成的群组中的一种以上的遮光成分，另外，本发明为将其涂布在基板上，进行曝光、显影，在160℃以下加热而形成具备既定图案的遮光膜的显示器用基板的制造方法及由此所得的显示器用基板。

技术领域

本发明涉及一种遮光膜用感光性树脂组合物、具备使所述遮光膜用感光性树脂组合物硬化而成的遮光膜的显示器用基板、及显示器用基板的制造方法，详细来说，本发明涉及一种适于在耐热温度为160℃以下的基板上形成遮光膜的遮光膜用感光性树脂组合物、在基板上具备作为所述遮光膜用感光性树脂组合物的硬化膜的遮光膜的显示器用基板、及该显示器用基板的制造方法。

背景技术

近来，以元件的可挠化或单片(one chip)化为目的，例如要求对聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，PET)或聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylenenaphthalate，PEN)等塑料基板(塑料膜、树脂制膜)直接形成遮光膜(遮光图案)，或于在玻璃基板或硅晶片上具备有机电致发光(Electroluminescent，EL)或有机薄膜晶体管(ThinFilm Transistor，TFT)等的元件上直接形成遮光膜。然而，这些情况下塑料基板自身的耐热温度或作为元件的耐热温度低，通常大多情况下耐热性至多仅为160℃左右。因此，在塑料基板或元件上形成遮光膜时，在160℃以下的热煅烧温度下膜强度变得不充分，在随后的后续工序(例如各红绿蓝(Red Green Blue，RGB)抗蚀剂涂布或耐碱性等)中，有产生涂膜的膜薄化、表面粗糙、图案剥离等不良状况的问题。

因此，例如在日本专利特开2003-15288号公报(专利文献1)中，公开了一种使用感光性树脂组合物在塑料基板上进行涂布、曝光、图案化、150℃热煅烧而成的基板，所述感光性树脂组合物是以丙烯酸系共聚物的碱溶性树脂作为基质，除了光聚合引发剂以外还含有热聚合引发剂，虽然确保了残渣、与基板的密接性(剥离测试)，但并未记载图案线宽、显影容限、可靠性(耐溶剂性、耐碱性)等，这些特性尚不充分。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2003-15288号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

本发明是鉴于所述问题点而成，其目的在于提供一种遮光膜用感光性树脂组合物，该遮光膜用感光性树脂组合物适于在耐热性至多为160℃的塑料基板或元件上形成遮光膜，对于耐热性低的这些塑料基板或元件等也可获得耐溶剂性或耐碱性优异的遮光膜。而且，本发明提供一种具备使该遮光膜用感光性树脂组合物硬化而成的遮光膜的显示器用基板及其制造方法。

[解决问题的技术手段]

因此，本发明人等人对通过160℃以下的热硬化而获得良好的显影密接性或图案的直线性、并且可获得耐溶剂性或耐碱性优异的遮光膜的遮光膜用感光性树脂组合物进行了努力研究，结果发现，通过含有既定的含聚合性不饱和基的碱溶性树脂、光聚合性单体、遮光成分及溶剂，并且将两种特定的聚合引发剂组合，可解决上文所述那样的课题，从而完成了本发明。

即，本发明的主旨如下。

(1)一种遮光膜用感光性树脂组合物，含有下述(A)成分～(E)成分作为必需成分，

(A)具有环氧(甲基)丙烯酸酯酸加成物的结构的含聚合性不饱和基的碱溶性树脂，

(B)具有至少三个乙烯性不饱和键的光聚合性单体，